| Markenbezeichnung: | ZMSH |
| MOQ: | 25 |
| Zahlungsbedingungen: | T/T |
Zusammenfassung
Ti:Al₂O₃ optische Fenster sind fortschrittliche technische Materialien, die die überlegene Härte von Aluminiumoxid (Mohs 9) mit titanverstärkter optischer Leistung kombinieren. Synthetisiert durch Hochtemperatur-Schmelzen und Präzisionsdotierung, weisen diese Fenster eine außergewöhnliche Transmission (≥92% im sichtbaren Spektrum) und eine UV-induzierte blaue Fluoreszenz (450nm Peak) auf. Hauptvorteile sind extreme Haltbarkeit (Vickers-Härte 2300-2800 MPa), Hochtemperaturbeständigkeit (bis zu 1800°C) und Korrosions-/Strahlungsstabilität (pH 1-13, γ-Strahlungsdämpfung <0,5%). Sie sind für industrielle und wissenschaftliche Anwendungen konzipiert und optimieren die Leistung in der Halbleiterlithographie (Sub-3nm-Ausrichtung), LiDAR-Systemen (-40°C–85°C Betrieb) und Hochleistungslasern (1064nm, 10kW/cm²). Kostengünstig und anpassbar, definieren Ti:Al₂O₃-Fenster die Zuverlässigkeit für hochmoderne optische Systeme neu.Unternehmensvorstellung
Optische FensterTechnische ParameterEigenschaftWertChemische Formel
Ti3+ Al2O3Kristallstruktur
| hexagonal | Ausrichtung |
| A-Achse innerhalb 5°, E-Vektor parallel zur C-Achse | Masse Dichte |
| 3,98 g/cm³ | Mohs-Härte |
| 9 | Elastizitätsmodul |
| 335 GPa | Zugfestigkeit |
| 400 MPa | Schmelzpunkt |
| 2040 °C | Wärmeleitfähigkeit |
| 33 W/(m K) | Wärmeausdehnungskoeffizient |
| ≈ 5 × 10⁻⁶ K⁻¹ | Thermischer Schockwiderstandsparameter |
| 790 W/m | Brechungsindex bei 633 nm |
| 1,76 | Temperaturabhängigkeit des Brechungsindex |
| 13 × 10⁻⁶ K⁻¹ | Ti-Dichte für 0,1% atomare Dotierung |
| 4,56 × 10¹⁹ cm⁻³ | Konzentrationen |
| (0,05~0,35) Gew.-% | Endkonfiguration |
| Flach/Flach oder Brewster/Brewster Enden | Emissionsquerschnitt bei 790 nm (Polarisation parallel zur c-Achse) |
| 41 × 10⁻²⁰ cm² | Beschichtungen |
| Standardbeschichtung ist AR mit R < 5,0% pro Fläche bei 532 nm und R < 0,5% pro Fläche, von 650 nm bis 850 nm. Kundenspezifische Beschichtungen werden unterstützt. | Anwendungen für optische Fenster |
| | Halbleiterfertigung |
| | EUV-Lithographie: Als Schutzfenster in Extrem-Ultraviolett-(EUV)-Lithographiesystemen verwendet, die eine Absorption von <0,001 dB/cm bei 13,5 nm für die Sub-3nm-Chipfertigung gewährleisten. |
A: : Hohe Transmission (>92% bei 193nm) ermöglicht präzise optische Inspektion von nanoskaligen Defekten.A:
A: A:
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A: UnterhaltungselektronikA:
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In welchen Branchen werden diese Fenster häufig eingesetzt?
Sie werden aufgrund ihrer Zuverlässigkeit in extremen Umgebungen weit verbreitet in der Halbleiterfertigung, in Lasersystemen, autonomen Fahrzeugen, der Luft- und Raumfahrt, medizinischen Geräten und der Unterhaltungselektronik eingesetzt.![]()
Sie werden aufgrund ihrer Zuverlässigkeit in extremen Umgebungen weit verbreitet in der Halbleiterfertigung, in Lasersystemen, autonomen Fahrzeugen, der Luft- und Raumfahrt, medizinischen Geräten und der Unterhaltungselektronik eingesetzt.![]()
A:
Absolut. Die synthetische Produktion reduziert die Kosten erheblich, während die Leistung natürlicher Alternativen beibehalten oder übertroffen wird.F:
A: