Saphirheber für Halbleiter Keramikheber mit hoher Reinheit

Saphirheber für Halbleiter Keramikheber mit hoher Reinheit

Zusammenfassung von Sapphire Lift Pin

Saphirheber sind präzise konstruierte Komponenten, die in der

Halbleiterverarbeitungsgeräte, insbesondere für die Waferverarbeitung, epitaxialWachstums- und Ablagerungssysteme wie MOCVD (Metallorganische Chemische Dampf Ablagerung), PECVD (Plasma-Verstärkte Chemische Dampf Ablagerung) und andere Hochtemperatur-, Vakuum-oder korrosive UmgebungenDiese aus Einkristall-Aluminium-Oxid (Al2O3) hergestellten, auch als synthetischer Saphir bezeichneten Liftpfeifen werden für ihre außergewöhnliche Härte, thermische Stabilität, chemische Beständigkeit,und Haltbarkeit.

Eigenschaften des Sapphire-Hochspinns

Saphirheber sind oft maßgeschneidert

Vorteile von Saphir-Hochschrauben

a.Hochtemperaturbeständigkeit

Saphir behält seine mechanische Festigkeit bei Temperaturen von mehr als 1.500 °C bei, was ihn für Epitaxialreaktoren und Ablagerungskammern, in denen andere Materialien verformt, oxidiert oder abgebaut werden können, gut geeignet macht.

b. Chemische Stabilität

Saphir ist chemisch inert in reaktiven und ätzenden Gasen wie H2, NH3 und HF und sorgt so für langfristige Leistungsfähigkeit in CVD- und Ätzerumgebungen.

c. Extreme Härte

Die hohe Oberflächenhärte widersteht Verschleiß und Kratzen durch Waferkontakt und mechanische Betätigung, wodurch Partikelbildung und Kontamination minimiert werden.

d. Dimensionelle Präzision

Saphir kann bis zu engen Toleranzen (± 1 μm) bearbeitet werden, um eine gleichbleibende Hebhöhe, Positionierungsgenauigkeit und Ausrichtung zu gewährleisten.

e.Erzeugung von geringen Partikeln

Im Gegensatz zu beschichteter Keramik oder Metallen, die bei thermischem Kreislauf abfließen oder ausgasaugleichen können, erzeugt Saphir keine Partikel, was für Reinräume und ultra-reine Prozessumgebungen von entscheidender Bedeutung ist.

f.Lange Lebensdauer

Die Verschleißfestigkeit und Stabilität von Saphir® unter extremen Bedingungen tragen zu einer geringeren Wartungsfrequenz und einer längeren Betriebszeit der Anlagen bei.

Physikalisches Abbild des Saphirheberpins

Anwendungen von Saphirhebern

Saphir-Lifthäufchen werden in einer Reihe von Halbleiter- und fortschrittlichen Materialprozessen eingesetzt, bei denen Wafer während der Herstellung präzise behandelt werden müssen.

a. MOCVD-Systeme

• Auf GaN, GaAs und InP basierenden Verbindungshalbleiterwachstum

• Produktion von LED- und Laserdioden

• Saphirwaffen und Epi-fähige Substrate

b.PECVD- und LPCVD-Reaktoren

• Waferübertragung bei Plasma-basierter Dünnschichtdeposition

• In Mikroelektronik, Solarzellen, MEMS und Photonik verwendet

c.Wärmeverarbeitungsöfen

• Hochtemperaturbrennen, Oxidation oder Diffusionsschritte

d.Inspektion und Handhabung von Wafern

• Mechanische Systeme, die Wafer vorübergehend stützen oder manipulieren

e.Ätzer- und Reinigungskammern

• Bei kritischer chemischer Resistenz bei der Vorreinigung oder dem Abziehen der Wafer

Fragen und Antworten

F:Welche Schlüsselfaktoren sollten beim Kauf von Saphirpins berücksichtigt werden?

A:Anwendungsszenario

• Materielle Bedingungen: Die Umgebungsbedingungen, denen die Aufzugspins ausgesetzt sind, wie hohe Temperaturen oder korrosive Umgebungen, sind zu bestimmen.
• Zweck: Entscheiden Sie sich für eine geeignete Konstruktion auf der Grundlage der spezifischen Anwendung (z. B. spektroskopische Messungen, Präzisionsgeräte usw.).

Abmessungen und Spezifikationen

• Durchmesser und Länge: Der entsprechende Durchmesser und die entsprechende Länge sind anhand der Größe der getragenen oder aufgehobenen Proben auszuwählen.
• Toleranzvoraussetzungen: Stellen Sie sicher, dass die Aufzugspins die Anforderungen an die Dimensionstoleranz Ihrer Anwendung erfüllen, um die Genauigkeit zu gewährleisten.

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