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Detailinformationen |
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| Materielle Reinheit: | SiO2≥ 99,999% | Schmelzpunkt: | 1730°C (Erweichungspunkt) |
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| Maximale Waferkapazität: | 25 Wafer (Standardgröße) | Säureresistenz: | Auf Schwefelsäuren, Stickstoffsäuren und Salzsäuren resistent (ohne HF) |
| Korrosionsbeständigkeit: | 30x höher als Keramik, 150x höher als Edelstahl | Kompatible Verfahren: | Halbleiterdiffusion, Glühen, Photovoltaik-Doping, Laborreaktionen |
| Hervorheben: | Hochreine Quarz-Wafer-Boot,Anpassbares Quarz Wafer Boot,Hochtemperaturbeständiges Quarzwaferboot |
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Produkt-Beschreibung
Produkteinführung
Ein Waferboot, auch als Boot oder Träger bekannt, ist ein wichtiges Werkzeug in der Halbleiterherstellung zum Halten, Übertragen und Positionieren von Wafern.Die Konstruktion muss extremen Bedingungen wie hohen Temperaturen (> 1000°C) standhalten, chemische Korrosion und elektrostatische Entladung (ESD), um die Sicherheit der Wafer während verschiedener Prozesse zu gewährleisten.
Grundsätze
- Ich weiß.Ausrichtung und Fixierung:
Positionslöcher auf dem Boot richten sich mit Nadeln in der Waferkassette aus und ermöglichen die Übertragung von Chargen ohne manuelle Handhabung.
Doppelschicht-Schlitze (oben und unten) sichern Wafer während des thermischen Zyklus (z. B. Glühen).
- Ich weiß.Thermisches Belastungsmanagement:
Das Material mit geringer thermischer Expansion (0,5×10−6/°C) minimiert die Verformung bei Temperaturschwankungen.
Die Honigschachtelstruktur verteilt die Wärmebelastung gleichmäßig.
Prozesskompatibilität:
Die Schlittengeometrien (z. B. I-Typ, V-Typ) bieten unterschiedliche Waferstärken (300×800 μm) und sorgen gleichzeitig für den Gasphasenreaktionsstofffluss.
Der diamantförmige Querschnitt ermöglicht eine bidirektionale Roboterladung, wodurch der Durchsatz verbessert wird.
Sicherheit und Schutz:
Die Pufferkomponenten (Feder, Gummipolster) absorbieren mechanische Stoßwirkungen während der Platzierung der Wafer.
Die Stickstoffreinigung entfernt Rückstände und verhindert eine Kontamination
Eigenschaften
Silikoglas ist ein spezialisiertes Industrieglas aus Siliziumdioxid (SiO2).
- - Ich weiß.Hochtemperaturbeständigkeit:
Erweichungspunkt: ~ 1730°C.
Wird kontinuierlich bei 1100~1250°C betrieben und hält kurzzeitiger Exposition bis zu 1450°C stand.
- - Ich weiß.Chemische Trägheit:
Widerstandsfähig gegen die meisten Säuren (außer Fluorwasserstoffsäure).
Die Korrosionsbeständigkeit ist 30 mal höher als bei Keramik und 150 mal höher als bei Edelstahl.
Beibehalten Stabilität unter extremen thermischen Bedingungen, übertrifft andere Materialien.
- Wärmestabilität:
Extrem niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient (~ 5,5 × 10−7/°C).
Überlebt Wärmeschocks (z. B. Erhitzen auf 1100°C und Ablöschen im Wasser).
- - Ich weiß.Optische Transparenz:
Breite Spektralübertragung von Ultraviolett (UV) auf Infrarot (IR).
Durchlässigkeit des sichtbaren Lichts: > 95%.
Die UV-Übertragbarkeit erreicht einen Höchststand von > 85% im Bereich von 185~250 nm.
- - Ich weiß.Elektrische Isolierung:
Die Widerstandsfähigkeit ist 10.000 mal höher als bei normalem Glas.
Ausgezeichnete dielektrische Eigenschaften auch bei hohen Temperaturen.
Anwendungen
Photovoltaik:Silikon-Wafer-Wärmebehandlung und Doping.
FuE:Laborskala-Hochtemperaturreaktoren und Materialprüfung