• Art Poliersiliziumscheibe-hoher Reinheitsgrad PVD 6 Zoll-N/CVD-Beschichtung
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Art Poliersiliziumscheibe-hoher Reinheitsgrad PVD 6 Zoll-N/CVD-Beschichtung

Art Poliersiliziumscheibe-hoher Reinheitsgrad PVD 6 Zoll-N/CVD-Beschichtung

Produktdetails:

Herkunftsort: China
Markenname: ZMSH
Zertifizierung: ROHS
Modellnummer: SI-OBLATE

Zahlung und Versand AGB:

Min Bestellmenge: 25PCS
Preis: by quantites
Verpackung Informationen: Kasten der Kassette 25pcs oder einzelner Oblatenbehälter
Lieferzeit: 2-4weeks
Zahlungsbedingungen: Western Union, T/T
Bestpreis Kontakt

Detailinformationen

Material: Einzelner Kristall des Si Art: N-artig oder P-artig
Methode: CZ oder Fz Anwendung: Halbleiterwafer
Größe: 2-12inch Produktname: Oblaten des Si substrate/si
Stärke: 0.2-1.0mmt Paket: Kasten der Kassette 25pcs
Markieren:

6 Zoll-Poliersiliziumscheibe

,

N-Art Polierhalbleiter-Substrat

,

PVD-beschichtende Poliersiliziumscheibe

Produkt-Beschreibung

 

 

Siliziumoxidwafer Wafers Siliziumscheibe DSP SiO2 6inch 8inch 2inch 1inch FZ CZ polierte N-artiger Polier- (11N) einzel- und doppel-Polier-Czochralski-Wafers des Zoll 1-12 der Siliziumscheibe von hohem Reinheitsgrad

 

 

 

Des von hohem Reinheitsgrad einzel- und doppel-Polier-Czochralski-Wafers (11N) Zoll 1-12 der Polier- Siliziumscheibe
Größen 1" 2" 3" 4" 5" 6" 8" 12" und Sondergröße- und Spezifikationsoblaten
Einzelne OberflächenPolierscheibe, doppelte Polierscheibe, Schleifscheibe, Korrosionsdiskette, Diskette schneiden
Kristallrichtung <100> <111> <110> <211> <511> und Siliziumscheiben mit verschiedenen Auswinkeln
Stärke 100um 200um 300um 400um 500um 1mm 5mm und andere Stärken, Dickentoleranz +-10um,

TTV-< 10um="" or="" according="" to="" customer="" requirements=""> Leitfähigkeitsart N-artig, P-artig, undope (tatsächlich hoher Widerstand)
Einzelne Kristallmethode Czochralski (CZ), Zonenschmelzen (FZ), NTD (mittleres Foto)
Widerstandskraftc$wieder-doping kann erreichen <0>

Zonenschmelzen tatsächlich: > 1000 ohm.cm, >3000 ohm.cm, >5000 ohm.cm, >8000 ohm.cm, >10000 ohm.cm
Prozessparameter Flachheit TIR: ≤3μm, Verholen TTV: ≤10μm,
Bogen/Warp≤40μm, roughness≤0.5nm, Teilchengröße <> 0.3μ)
Verpackende Ultra-saubere Aluminiumfolie der Methode, die 10 Stücke, 25 Stücke vakuumverpackt
Kundenbezogenheit die Bearbeitungszeit des Modells, der Kristallrichtung, der Stärke, der Widerstandskraft, des etc. zu verarbeiten ist entsprechend verschiedenen Spezifikationen und Parametern etwas unterschiedlich.
Anwendungseinleitung wird es für Synchrotronstrahlungsprobenträger wie Prozesse, PVD-/CVDbeschichtungen als Substrate, Magnetronspritzenwachstumsproben, XRD, SEM verwendet,
Atomkraft, Infrarotspektroskopie, Fluoreszenzspektroskopie und andere Analysetestsubstrate, Wachstumssubstrate der Molekularstrahlepitaxie, Röntgenanalyse von kristallenen Halbleitern

 

ZMSH ist die Halbleiterstärkefabrik, die für wissenschaftliche Forschungslaborausrüstungsprüfung, 2-3-4-5-6-8-Zoll-Poliersiliziumoxidwafers, einzelne Kristallsubstratwafers der wissenschaftlichen Forschung des Elektronenmikroskops des silikons überzogene von hohem Reinheitsgrad speziell ist

Konsultieren Sie bitte den Inhaber, bevor Sie einen Auftrag für spezifische Spezifikationen vergeben, und fühlen Sie bitte sich frei, alle mögliche Fragen über Siliziumscheiben zu stellen.

Alle wissenschaftlichen Forschungslabors und Halbleiterfirmen sind willkommen zu bestellen, und Soem-Aufträge können empfangen werden, und Siliziumscheiben können importiert werden.

Spezielle Aussage: Alle Siliziumscheiben unserer Firma werden vom einzelnen Kristallsilikon verarbeitet, das vom gebürtigen Polysilicon, nicht billige aufbereitete Siliziumscheiben gezeichnet wird oder neu polierte Siliziumscheiben benutzten! Das Zitat umfasst eine 16% Mehrwertsteuer-Rechnung.

Unsere Inventarliste für Siliziumscheiben (IC-Grad, Zug-Methode CZ)
 Gerades Zug-Simplex-Poliersiliziumscheibe
1 Zoll (25.4mm) einseitige Polier-Czochralski-Waferstärke 500um
2 (50.8mm) der einseitigen Polier-Czochralski-Wafer-Zoll Stärke 280um
3 (76.2mm) der einseitigen Polier-Czochralski-Wafer-Zoll Stärke 380um
einseitige Poliergeradzugsiliziumscheibe 4 Zoll (100mm) mit einer Stärke von 500um
5 Zoll (125mm) einseitige Polier-Czochralski-Waferstärke 625um
6 (150mm) der einseitigen Polier-Czochralski-Wafer-Zoll Stärke 675um


Doppelseitige Poliersiliziumscheiben Czochralski
1 Zoll (25.4mm) doppelseitige Polier-Czochralski-Waferstärke 500um
2 (50.8mm) der doppelseitigen Polier-Czochralski-Wafer-Zoll Stärke 280um
3 (76.2mm) der doppelseitigen Polier-Czochralski-Wafer-Zoll Stärke 380um

4 (100mm) der doppelseitigen Polier-Czochralski-Wafer-Zoll Stärke 500um
5 (125mm) der doppelseitigen Polier-Czochralski-Wafer-Zoll Stärke 625um
6 (150mm) der doppelseitigen Polier-Czochralski-Wafer-Zoll Stärke 675um
Gerad-gezogen einseitiges polierte ultradünne Siliziumscheiben


Geradzug-Siliziumscheibepolierstärke 100um 1 Zoll (25.4mm) einseitige ultradünne
2 (50.8mm) Geradzugsiliziumscheibe-Zoll Polierstärke 100um des Simplex der ultradünnen
3 (76.2mm) Geradzugsiliziumscheibe-Zoll Polierstärke 100um des Simplex der ultradünnen
einseitige ultradünne Geradzugpoliersiliziumscheibe 4 Zoll (100mm) mit einer Stärke von 100um


Doppelseitige ultradünne PolierSiliziumscheiben Czochralski
1 Zoll (25.4mm) doppelseitige ultradünne Czochralski-Waferpolierstärke 100um
2 (50.8mm) der doppelseitigen ultradünnen Czochralski-Wafer-Zoll Polierstärke 100um
3 (76.2mm) der doppelseitigen ultradünnen Czochralski-Wafer-Zoll Polierstärke 100um
4 (100mm) der doppelseitigen ultradünnen Czochralski-Wafer-Zoll Polierstärke 100um


Siliziumscheibe (IC-Grad, Zonenschmelzen FZ)
Zonenschmelzensimplexpoliersiliziumscheibe
1 Zoll (25.4mm) fixierte Siliziumscheibestärke 500um in einseitigem Polierbereich
2 Zoll (50.8mm) fixierten Siliziumscheibestärke 280um in Simplexpolierbereich

3 Zoll (76.2mm) fixierte Siliziumscheibestärke 380um in Simplexpolierbereich
4 Zoll (100mm) fixierten Siliziumscheibestärke 500um in Simplexpolierbereich


Zonenschmelzendoppelseitige Poliersiliziumscheiben
1 Zoll (25.4mm) fixierte Siliziumscheibestärke 500um in doppelseitigem Polierbereich
2 Zoll (50.8mm) fixierten Siliziumscheibestärke 280um in doppelseitigem Polierbereich
3 Zoll (76.2mm) fixierte Siliziumscheibestärke 380um in doppelseitigem Polierbereich
4 Zoll (100mm) fixierten Siliziumscheibestärke 500um in doppelseitigem Polierbereich


Ultradünne PolierSiliziumscheibe des Zonenschmelzensimplex
1 Zoll (25.4mm) einseitige Polierultradünne Siliziumscheibestärke 100um zonenschmelzens
2 (50.8mm) der einseitigen Polierultradünnen Siliziumscheibezoll Stärke 100um zonenschmelzens
3 (76.2mm) der einseitigen Polierultradünnen Siliziumscheibezoll Stärke 100um zonenschmelzens
4 (100mm) der einseitigen Polierultradünnen Siliziumscheibezoll Stärke 100um zonenschmelzens


Doppelseitige ultradünne PolierSiliziumscheiben Zonenschmelzens
doppelseitiger Polierbereich 1 Zoll (25.4mm), der ultradünne Siliziumscheibestärke 100um schmilzt
2 Zoll (50.8mm) doppelseitige Polierbereich, die ultradünne Siliziumscheibestärke 100um schmelzen

3 Zoll (76.2mm) doppelseitige Polierbereich, die ultradünne Siliziumscheibestärke 100um schmelzen
4 Zoll (100mm) doppelseitige Polierbereich, die ultradünne Siliziumscheibestärke 100um schmelzen

 

Produkt-Name
Einzelne Kristall- Polier-6mm Zollsiliziumscheibe der hohen Qualität P type/N-type
Durchmesser
150mm +0/-0.5 Millimeter
Stärke
500 μm ± 25 μm oder Kunden-Spezifikation
Oberflächenende
doppelte Seitenpolitur (DSP)
Dopant
n-Art: Stickstoff
TTV/BOW/Warp
< 5="">
Widerstandskraft
0.01~0.03 Ω×cm
Kristallrichtung
<100> oder <111>

 
Verwendet für Synchrotronstrahlungsprobenträger wie Prozesse, PVD-/CVDbeschichtung als Substrat, Magnetronspritzenwachstumsproben, XRD, SEM, Atomkraft, Infrarotspektroskopie, Fluoreszenzspektroskopie und andere Analyse- und Prüfungssubstrate, Wachstumssubstrate der Molekularstrahlepitaxie, Röntgenanalyse Crystal Semiconductor Lithography

Einrichtungsinformationen müssen umfassen:
1. Widerstandskraft
2. Größe: 2", 3", 4", 5", andere Größen kann besonders angefertigt werden
3. Stärke
4. einseitiges Polieren, doppelseitiges Polieren, kein Polieren
5. Grad: Mechanischer Grad, Test-Grad, Hauptgrad (positiv Film)
6. Leitfähigkeitsart: P-Art, n-Art
7. Kristallrichtung
7. Lackieren der Art: Bor-lackiert, Phosphor-lackiert, Arsen-lackiert, Gallium-lackiert, Antimon-lackiert, undoped
8. BEUGEN TTV, (normaler Wert ist <10um>

Produkt-Details

Art Poliersiliziumscheibe-hoher Reinheitsgrad PVD 6 Zoll-N/CVD-Beschichtung 0

1. wie können wir Qualität garantieren?
Immer eine Vorproduktionsprobe vor Massenproduktion;
Immer Endprüfung vor Versand;

2.what kann Sie von uns kaufen?
Der Laser-Schnitt-Metallteil, Laser-geschliffenes Glas, Sapphire Glass, Plastik-/Acryl Laser-Schnitt, Laser schnitt Aluminium-/keramisches Teil

3. warum sollten Sie von uns nicht von anderen Lieferanten kaufen?
1.more als 10 Jahre Erfahrung. Lieferung 2.Fast und feiner Preis. Qualität 3.Better und Kundendienst. Inspektion 4,100% vor Versand. unterschiedliche Arten 5.many zu liefern schnell zu garantieren des Versendens, und billigen Frachtkosten.

4. welche Dienstleistungen können wir erbringen?
Geltende Lieferbedingungen: UHRKETTE, CFR, CIF, EXW FAS CIP, FCA, CPT, DEQ, DDP, DDU, Kurierdienst, DAF, DES;
Geltende Zahlungs-Währung: USD, EUR, JPY, CAD, AUD, HKD, GBP, CNY, CHF;
Geltende Zahlungs-Art: T/T, L/C, D/P D/A, MoneyGram, Kreditkarte, Paypal, Western Union, Bargeld, Übertragungsurkunde;
Sprache gesprochen: Englisch, chinesisch, spanisch, japanisch, portugiesisch, deutsch, arabisch, französisch, Russe, Koreaner, Hindi, italienisch

 

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