Hochreine Siliziumwafer mit hoher Wärmeleitfähigkeit 3 Zoll 4 Zoll 6 Zoll 8 Zoll
Produktdetails:
Herkunftsort: | China |
Markenname: | ZMSH |
Zertifizierung: | ROHS |
Modellnummer: | Wafer mit hoher Reinheit |
Zahlung und Versand AGB:
Min Bestellmenge: | 10 |
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Lieferzeit: | 2-4 Wochen |
Zahlungsbedingungen: | T/T |
Detailinformationen |
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Materielle Art: | Einkristallisches Silizium | Reinheit: | 990,9999% (6N) oder mehr |
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Kristallrichtung: | Die Daten werden in der Tabelle 1 aufgeführt. | Flachheit: | ≤ 1 μm oder besser |
Oberflächenrauigkeit: | < 0,5 nm RMS oder weniger | Wärmeleitfähigkeit: | < 10/cm2 oder weniger |
Kristallfehler: | Keine Schleiferbänder, keine Zwillinge, usw. | Stärke: | Standarddicke oder nach Kundenanforderungen angepasst |
Hervorheben: | 4 Zoll Silikon-Wafer,Hochreine Siliziumwafer |
Produkt-Beschreibung
Siliziumwafer mit elektrischer Qualität Ultra-hoher Reinheit mit optoelektronischer Qualität
Abstract
Die hochreine SiliziumwaferDie von uns angebotenen Geräte werden mit hoher Präzision bearbeitet und unterliegen einer strengen Qualitätskontrolle, die den hohen Anforderungen der Halbleiterindustrie an Reinheit und Leistung entspricht.Diese Wafer werden aus reinen Rohstoffen und optimierten Wachstumsprozessen hergestellt, die einen extrem niedrigen Verunreinigungsgehalt und eine hervorragende Kristallqualität gewährleisten.mit einer Breite von mehr als 20 mm,.mit einer Breite von nicht mehr als 20 mm,Diese Eigenschaften sorgen für eine hohe thermische Stabilität und mechanische Festigkeit, die eine stabile Leistung unter verschiedenen Prozessbedingungen gewährleistet.mit einer Breite von nicht mehr als 20 mm,eine ideale Wahl für die Herstellung leistungsstarker Halbleitergeräte.
Anwendung
Quantenpunkte: Für die Herstellung von Quantenpunkten verwendet, in Displays, Photodetektoren usw. eingesetzt.
Fotolithographie-Masken: Wirkt als Basismaterial für Masken, die in Photolithographie-Prozessen verwendet werden.
Infrarotfenster und -linsen: Für die Herstellung von Infrarotfenstern und -linsen verwendet, die in der Infrarotbildgebung und -erkennung eingesetzt werden.
MEMS-Geräte:mit einer Breite von nicht mehr als 20 mm,als Basismaterial für verschiedene Geräte für mikroelektromechanische Systeme (MEMS) verwendet.
Nanoimprint Lithographie: Wird in der Nanoimprint Lithographie-Technologie zur Herstellung von hochpräzisen und ultrakleinen elektronischen Komponenten eingesetzt.
Quantum Computing: Wird bei der Entwicklung und Forschung von Quantencomputerhardware verwendet.
Biokompatible Geräte:mit einer Breite von nicht mehr als 20 mm,für die Herstellung von medizinischen Geräten und Sensoren verwendet, die mit biologischen Geweben kompatibel sind.
Merkmal
Außergewöhnliche Reinheit: Unseremit einer Breite von nicht mehr als 20 mmSie verfügen über einen beeindruckenden Reinheitsgrad von 99,9999% (6N) oder höher und gewährleisten eine optimale Leistung für Ihre Anwendungen.
Präzisionsfertigung: Durch eine strenge Qualitätskontrolle haben unsere Wafer eine präzise Dicke, Ausrichtung und Oberflächenrauheit, die den höchsten Industriestandards entspricht.
Hohe Wärmeleitfähigkeit: Unseremit einer Breite von nicht mehr als 20 mm,eine ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit aufweisen und eine effiziente Wärmeableitung Ihrer Geräte gewährleisten.
Robuste physikalische Eigenschaftenmit einer Breite von nicht mehr als 20 mm,Unsere Wafer bieten eine zuverlässige Basis für Ihre Komponenten.
Anpassbare Optionen: Wir bieten anpassbare Optionen für Durchmesser, Dicke und Widerstand an, um Ihren spezifischen Anforderungen gerecht zu werden.
Ultra-Clean-Oberfläche: Unsere Wafer werden sorgfältig gereinigt, was zu einer ultra-sauberen Oberfläche mit minimalen Defekten führt.
Konsistente Qualität: Wir halten uns an strenge Standards, um eine gleichbleibende Qualität unserer Produkte zu gewährleisten, sodass Sie Sicherheit haben.
Expertenunterstützung: Unser Expertenteam ist bereit, Ihnen bei der Auswahl der perfekten Wafer-Spezifikationen für Ihre Bedürfnisse zu helfen und bietet Ihnen während Ihrer gesamten Kaufreise eine beispiellose Unterstützung.
Parameter/Eigenschaft |
Beschreibung/Spezifikation |
Art des Materials |
Einkristallisches Silizium |
Reinheit |
990,9999% (6N) oder mehr |
Durchmesser |
2 Zoll, 3 Zoll, 4 Zoll, 6 Zoll, 8 Zoll, 12 Zoll, usw. |
Stärke |
Standarddicke oder nach Kundenanforderungen angepasst |
Kristallorientierung |
Die Daten werden in der Tabelle 1 aufgeführt. |
Orientierung |
Genauigkeit ± 0,5° oder mehr |
Ausmaß der Abweichung |
mit einer Präzision von ± 5 μm oder mehr |
Flachheit |
≤ 1 μm oder besser |
Oberflächenrauheit |
< 0,5 nm RMS oder weniger |
Biegefestigkeit |
> 500 MPa |
Wärmeleitfähigkeit |
< 10/cm2 oder weniger |
Koeffizient der thermischen Ausdehnung |
~2,6 × 10^-6 /°C |
Widerstand |
1-100 Ω·cm oder individuell angepasst |
Kristallfehler |
Keine Schleiferbänder, keine Zwillinge, usw. |
Verpackung |
Vakuumverpackungen in einer sauberen, staubfreien Umgebung |
Anwendungen |
Herstellung von Halbleitergeräten, optoelektronischen Geräten, Hochfrequenzgeräten, Mikro/Nanobearbeitung usw. |
Häufige Fragen:
F: Wie ist der Versand und die Kosten?
A:(1) Wir akzeptieren DHL, Fedex, EMS usw.
(2) Es ist in Ordnung, wenn Sie ein eigenes Expresskonto haben, wenn nicht, können wir Ihnen helfen, sie zu versenden und
Die Fracht entspricht der tatsächlichen Rechnung.
F: Wie zahlen?
A: T/T 100% Anzahlung vor Lieferung.
F: Was ist Ihr MOQ?
A: (1) Für Lagerbestände beträgt die MOQ 1 Stück. Wenn 2-5 Stück ist es besser.
(2) Für kundenspezifische Waren beträgt die MOQ 10 Stück.
F: Wie ist die Lieferzeit?
A: (1) Für die Standardprodukte
Für Bestände: Die Lieferung erfolgt 5 Werktage nach Bestellung.
Für maßgeschneiderte Produkte: Die Lieferung erfolgt 2 -4 Wochen nach der Bestellung.
F: Haben Sie Standardprodukte?
A: Unsere Standardprodukte sind auf Lager.