Silikonwafer N Typ P Dopant 2 Zoll 4 Zoll 6 Zoll 8 Zoll Widerstand: 0-100 Ohm-cm Einseitig poliert

Produktabstrakt

Siliziumwafer sind dünne Scheiben von Halbleitermaterial, überwiegend Silizium, das als Substrat bei der Herstellung von integrierten Schaltungen (ICs) und anderen mikroelektronischen Geräten verwendet wird.Diese Wafer stammen aus einkristallinen Silizium-Ingots, die mit Methoden wie dem Czochralski-Verfahren (CZ) angebaut werden.und auf der Grundlage spezifischer Anforderungen der Branche weiterverarbeitet.

Eigenschaften des Erzeugnisses

Siliziumwafer sind integraler Bestandteil der Halbleiterindustrie und weisen eine Reihe von Eigenschaften auf, die sie ideal für die Herstellung elektronischer und photonischer Geräte eignen.Hier sind die wichtigsten Eigenschaften von Siliziumwafern:

1. Elektrische Eigenschaften:

   • Verhalten der Halbleiter: Silizium besitzt intrinsische Halbleiter-Eigenschaften, was bedeutet, dass seine Leitfähigkeit durch Zugabe von Verunreinigungen, bekannt als Doping, verändert werden kann.Dies erlaubt die Herstellung von p- und n-Typ-Materialien, die für die Bildung von p-n-Verbindungen in elektronischen Geräten unerlässlich sind..
   • BandgapSilizium hat eine Bandlücke von 1,12 eV bei Raumtemperatur,die für elektronische Geräte günstig ist, da sie eine gute Balance zwischen Elektronenmobilität und Widerstand gegen die thermische Erzeugung von Elektronen-Lochpaaren bietet.

2. Mechanische Eigenschaften:

   • Härte und Stärke: Silizium ist ein relativ hartes und starkes Material, das robust genug ist, um den mechanischen Belastungen bei der Verarbeitung von Halbleitern standzuhalten.
   • Bruchbarkeit: Trotz seiner Festigkeit ist Silizium spröde, was zu Waferbruch führen kann, wenn es während des Herstellungsprozesses nicht richtig behandelt wird.

3. Thermische Eigenschaften:

   • Wärmeleitfähigkeit: Silizium weist eine gute Wärmeleitfähigkeit (ca. 150 W/mK bei Raumtemperatur) auf, die für die Wärmeableitung in Hochleistungs- und Hochfrequenzgeräten von entscheidender Bedeutung ist.
   • Koeffizient der thermischen Ausdehnung: Silizium hat einen Wärmeausdehnungskoeffizienten von etwa 2,6 x 10^-6 pro Grad Celsius, der relativ niedrig ist und bei der Verarbeitung von Geräten hilft, die Strukturintegrität unter thermischer Belastung zu erhalten.

4. Optische Eigenschaften:

   • Transparenz im Infrarot: Silizium ist für Infrarotlicht durchsichtig, was es in Infrarotdetektoren und anderen photonischen Anwendungen nützlich macht.

5. Chemische Eigenschaften:

   • Chemische Stabilität: Silizium ist chemisch unter den meisten Verarbeitungsbedingungen stabil, kann jedoch durch bestimmte in der Halbleiterherstellung verwendete Industriechemikalien geätzt werden.
   • Oxidation: Silizium bildet leicht eine natürliche Oxidschicht (Siliziumdioxid), wenn es besonders bei hohen Temperaturen Sauerstoff ausgesetzt ist.wie Isolationsschichten und Tor-Oxide in der MOS-Technologie.

- Ich weiß.

Diese Eigenschaften werden während des Herstellungsprozesses von Halbleitergeräten genutzt, bei denen eine präzise Kontrolle über elektrische, mechanische,und chemische Eigenschaften erforderlich sind, um zuverlässige und leistungsstarke elektronische Komponenten herzustellenDie Anpassungsfähigkeit von Siliziumwafern an verschiedene Dopingverfahren erhöht ihre Nützlichkeit bei der Herstellung einer breiten Palette elektronischer und photonischer Geräte.

Anwendungen von Produkten

Durch ihre vielseitigen Eigenschaften und Kompatibilität mit verschiedenen Fertigungstechnologien finden Siliziumwafer in zahlreichen Branchen Anwendung.Hier ist, wie diese Anwendungen im Allgemeinen kategorisiert werden:

1. Integrierte Schaltungen (IC):

   • Mikroprozessoren und Mikrocontroller: Das sind die Gehirne von Computern, Smartphones und eingebetteten Systemen, die Berechnungen und Datenverarbeitung verarbeiten.
   • Speicherchips: Einschließlich DRAM, SRAM und Flash-Speicher, die für die Speicherung von Daten in einer Vielzahl von elektronischen Geräten unerlässlich sind.

2. Sonnenenergie:

   • Photovoltaikzellen: Siliziumwafer sind ein primäres Material in Solarzellen, die Sonnenlicht in Strom umwandeln.mit einem Wirkungsgrad, der von der Reinheit und der Kristallstruktur des Siliziums abhängt.

3. Mikroelektromechanische Systeme (MEMS):

   • Sensoren und Aktoren: Dazu gehören Beschleunigungsmessgeräte, Gyroskope und Mikrofone, die häufig in Automobilsystemen, Smartphones und Medizinprodukten verwendet werden.

4. Optoelektronik:

   • LEDs und Photodetektoren: Siliziumwafer werden verwendet, um Geräte zu bauen, die Licht emittieren oder darauf reagieren. Sie sind in Displays, optischen Kommunikationssystemen und Bildgebungsgeräten integriert.
   • Integrierte optische Schaltungen: In der Telekommunikation zur effizienteren Datenübertragung verwendet.

5. Elektroelektronik:

   • Geräte zur Energieverwaltung: Diese Geräte regeln und steuern die Verteilung und den Stromfluss in Systemen, die für die Steigerung der Energieeffizienz und Leistung in Automobil- und Industrieanwendungen von entscheidender Bedeutung sind.

6. Halbleiterlaser:

   • Infrarotlaser: Obwohl Silizium nicht das primäre Material für lichtemittierende Anwendungen ist, wird es bei der Konstruktion von Komponenten für Halbleiterlaser, insbesondere für die integrierte Photonik, verwendet.

7. Quantenrechner:

   • Quantenpunkte und andere Quantengeräte: Experimentelle Anwendungen von Siliziumwafern im Quantencomputing umfassen die Erstellung von Quantenpunkten, die als Qubits funktionieren können.

Jede dieser Anwendungen nutzt die einzigartigen elektrischen, thermischen, mechanischen und optischen Eigenschaften von Siliziumwafern, um spezifische funktionelle Anforderungen zu erfüllen.Die laufende Entwicklung und Verkleinerung der Siliziumtechnologie eröffnet weiterhin neue Möglichkeiten und verbessert die bestehenden Fähigkeiten in diesen unterschiedlichen Bereichen..