Detailinformationen |
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Wachstums-Methode: | Spezielle Schmelzvorrichtungen | Typische Reinheit: | 99.95% |
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Kristallstruktur: | Kübel | Einheitszellkonstante: | a = 4,212 Å |
Schmelzpunkt (°C): | 2800 | Dichte: | 3.58 (g/cm3) |
Härte: | 5.5 (Mohs) | Der thermische Expansionskoeffizient, CTE (/K): | 11.2 x 10-6 |
Hervorheben: | Magnesiumoxidmonokristalline MgO-Wafer,angepasste MgO-Wafer,Polierte MgO-Wafer |
Produkt-Beschreibung
MgO Wafer (111) (100) Polster Magnesiumoxid Monokristall Halbleiter individuell angepasst
Beschreibung der MgO-Wafer:
Einzelkristall MgO-Wafer sind ein Hauptbestandteil von Dünnschichtlabors zur Unterstützung des hoheigentlichen Wachstums von oxiden (und Metall) epitaxialen Dünnschichten, einschließlich Halbleiter-, Supraleiter-, Dielektrik-, Ferroelektrik-,und ferromagnetische Oxide. MgO-Kristalle wachsen gut mit minimalen Defekten, was bedeutet, dass es bis zu einem Durchmesser von 2 Zoll verfügbar ist und als hochhärtes Material mit einer nahezu atomaren Rauheit (rms < 0,2 nm) poliert werden kann.
Aufgrund seiner hohen Transparenz (auch bei einer Dicke von 0,5 mm > 85%) wird es häufig für optische Experimente verwendet, um den Film auf der Oberseite zu untersuchen,in diesem Fall wählen Sie die doppelseitige polierte, wenn diese Messungen im Übertragungsmodus durchgeführt werden.
Charakter der MgO-Wafer:
Elektrische Isolierung: MgO-Wafer weisen ausgezeichnete elektrische Isolierungseigenschaften auf, die sie für die Verwendung in elektronischen Geräten und Isolationsschichten in Halbleiteranwendungen geeignet machen.
Thermische Stabilität: MgO-Wafer haben eine hohe thermische Stabilität und können hohen Temperaturen standhalten, was für Anwendungen von Vorteil ist, die Wärmebeständigkeit erfordern.
Optische Transparenz: Bei bestimmten Wellenlängen zeigen MgO-Wafer eine gute optische Transparenz, was sie für optoelektronische Anwendungen wie LEDs und Laserdioden nützlich macht.
Härte: MgO-Wafer zeichnen sich durch ihre hohe Härte aus, was zu ihrer Langlebigkeit und Abnutzungsbeständigkeit beiträgt.
Chemische Trägheit: MgO-Wafer sind chemisch träg und korrosionsbeständig, was ihre Eignung für den Einsatz in rauen Umgebungen und chemischen Prozessen erhöht.
Kristallstruktur: MgO-Wafer haben typischerweise eine kubische Kristallstruktur, was sich auf ihre physikalischen und optischen Eigenschaften auswirken kann.
Dielektrische Eigenschaften: MgO-Wafer weisen günstige dielektrische Eigenschaften auf, die sie für den Einsatz in Kondensatoren und anderen elektronischen Komponenten geeignet machen.
Magnetische Eigenschaften: In bestimmten Konfigurationen können MgO-Wafer magnetische Eigenschaften aufweisen, die für Anwendungen in magnetischen Tunnelverbindungen und magnetischen Speichergeräten von Vorteil sind.
Form der MgO-Wafer:
MgO-Wafer | |
Kristallorientierung | (S. 100), (110), (111) |
Optische Übertragung | > 90% (200 bis 400 nm), > 98% (500 bis 1000 nm) |
Dielektrische Konstante | 9.65 |
Größen | 10x10 mm, 20x20 mm, 1 Zoll Durchmesser, 2 Zoll Durchmesser, 60 mm Durchmesser |
3 Zoll MgO Wafer und 4 Zoll MgO Wafer sind auf Anfrage erhältlich | |
Standarddicke | 0.5 mm oder 1.0 mm |
Polstern | mit einer Breite von mehr als 30 mm, |
Kristallorientierung | +/- 0,5 Grad |
Oberflächenrauheit, Ra: | < 0,5 nm (5 um x 5 um Fläche) |
Paket | Verpackt mit einer Saugtasche der Klasse 100 in einem sauberen Raum der Klasse 1000 |
Physikalisches Foto von MgO Wafer:
Anwendung von MgO-Wafer:
1. Halbleiterindustrie: MgO-Wafer werden in der Halbleiterindustrie für verschiedene Zwecke verwendet, z. B. als Substratmaterial für Dünnschichtdeposition, als Isolationsschichten in elektronischen Geräten,und als Pufferschicht in Magnet-Tunnel-Kreuzungen.
2. Optoelektronik: MgO-Wafer finden aufgrund ihrer elektrischen Isolierungseigenschaften und Transparenz gegenüber Licht Anwendungen in optoelektronischen Geräten wie LEDs (Lichtdioden) und Laserdioden.
3Magnetische Speicherung: Im Bereich der MagnetspeicherungMgO-Wafer werden als Tunnelbarrierschichten in magnetischen Tunnelverbindungen für Anwendungen im magnetischen Zufallsspeicher (MRAM) und in magnetischen Sensoren verwendet.
4. Thermische Barrierebeschichtungen: MgO-Wafer werden aufgrund ihrer thermischen Eigenschaften wie hohem Schmelzpunkt und thermischer Leitfähigkeit bei der Herstellung von thermischen Barrierebeschichtungen verwendet.
5. Medizinische Bildgebung: MgO-Wafer werden in medizinischen Bildgebungstechnologien wie Röntgengeräten und CT-Scannern als Komponenten in den Detektoren verwendet, um Röntgenstrahlen in elektrische Signale umzuwandeln.
6. Dünnschichtdeposition: MgO-Wafer werden als Substrate für die Deposition dünner Filme in verschiedenen Anwendungen, einschließlich Optik, Sensoren und Mikroelektronik, verwendet.
7. Forschung und Entwicklung: MgO-Wafer werden in Forschungslabors für experimentelle Zwecke verwendet, z. B. zur Untersuchung von Dünnschichtwachstum, Oberflächen-Eigenschaften und elektronischen Strukturen.
Anwendungsbild von MgO-Wafer:
Häufige Fragen:
1.F: Was sind Magnesiumoxid-Substrate?
A: Magnesiumoxid-Single-Crystal-Substrat wird zur Herstellung von Magnetfilmen, Halbleiterfilmen, optischen Filmen, hochtemperaturbetriebenen supraleitenden Filmen usw. verwendet.
2.F: Wie reinigen Sie MgO-Substrat?
A: Magnesiumoxid Einzelkristalle absorbieren Feuchtigkeit, die die Oberfläche der Kristalle beschädigt.Um die Kristalle zu reinigen.Die Kristalle sollten in dieser Lösung gehalten werden, bis sie zum Filmwachstum bereit sind.
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