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Detailinformationen |
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| 1 > a: | ±0.05 | 1 ¢a ¢4: | ±0.1 |
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| 4 < a ¢ 25: | ±0,2 | 25 < a ̇ 102: | ±0.25 |
| 102 | ±0.5 | 190a: | ± 1 |
| Hervorheben: | Al2O3-Hochspitze,Saphir-Lifthilf,Waferübertragungsheber |
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Produkt-Beschreibung
Wafer-Lifthilfe-Pin Saphir-Lifthilfe-Pin und -Stab für Wafer-Transfer Al2O3-Material
Überblick über den Saphirheber
Sapphire Lift Pins sind kritische Komponenten, die in der Halbleiterherstellung im Waferübertragungsverfahren verwendet werden.Diese Pins sind wegen ihrer außergewöhnlichen mechanischen Festigkeit und ihrer präzisen Dimensionsstabilität sehr geschätzt, die auch unter extremen Bedingungen wie hohen Temperaturen und chemisch aggressiven Plasmaumgebungen erhalten bleiben.erheblich zur Effizienz und zum Ertrag der Halbleiterproduktion beitragenDaher sind Sapphire Lift Pins für die Qualität und den Erfolg des Herstellungsprozesses unerlässlich.
Eigenschaft des Saphir-Hochspinns
- Außergewöhnliche mechanische Festigkeit:Sapphire Lift Pins bieten eine hohe Haltbarkeit und Widerstandsfähigkeit gegen mechanische Belastungen und gewährleisten eine zuverlässige Leistung in anspruchsvollen Umgebungen.
- Genaue Dimensionsstabilität:Sie erhalten über längere Zeiträume hinweg genaue Abmessungen, was für eine gleichbleibende Handhabung und Ausrichtung der Wafer entscheidend ist.
- Hochtemperaturbeständigkeit:Sie sind in der Lage, extremen Temperaturen standzuhalten, was sie für den Einsatz in Halbleiterprozessen mit hoher Temperatur geeignet macht.
- Chemische Resistenz:Widerstandsfähig gegen raue Chemikalien und Plasmaumgebungen, die Langlebigkeit und Zuverlässigkeit unter chemisch aggressiven Bedingungen gewährleisten.
- Verbesserte Genauigkeit:Konzipiert, um eine präzise Kontrolle und Stabilität während des Wafertransfers zu gewährleisten, wodurch die gesamte Prozesseffizienz und der Ertrag verbessert werden.
- Konsistenz in der Leistung:Zuverlässig bei längerer Nutzung und reduziert den Bedarf an häufigen Austausch und Wartung.
- Material
- Einkristalliner Saphir
- Präzision
- Standart Toleranz (mm, Nenngröße: a)
1 > a : ±0.05 1 ¢a ¢4 : ±0.1 4 < a ¢ 25 : ±0.2 25 < a ̇ 102 - Das ist nicht wahr.25 102 : ±0.5 190a : ± 1
Diese Eigenschaften machen Sapphire Lift Pins zu wesentlichen Komponenten für die Herstellung von Hochleistungs-Halbleitern.
mit einer Breite von mehr als 20 mm,
Anwendungsbereich der Saphir-Lifthilfe
Halbleiterherstellung: Bei der Waferübertragung werden Sapphire Lift Pins verwendet, um die präzise Handhabung und Positionierung von Wafern in kritischen Phasen der Halbleiterproduktion zu erleichtern.
Waferverarbeitung: Wesentlich für eine genaue Waferausrichtung und Bewegung in verschiedenen Verarbeitungsstufen, einschließlich Ätzen, Ablagerung und Photolithographie.
Hochtemperaturumgebungen: Wird in Umgebungen mit extremen Temperaturen, wie z. B. bei Plasma-Etz- und Ablagerungsprozessen, aufgrund ihrer hervorragenden thermischen Stabilität verwendet.
Chemikalienresistente Umgebungen: Ideal für den Einsatz in Systemen, die heftigen Chemikalien und Plasma ausgesetzt sind, und bietet Haltbarkeit und Zuverlässigkeit unter chemisch aggressiven Bedingungen.
Präzisionsinstrumentation: In Präzisionsgeräten eingesetzt, bei denen Dimensionsstabilität und Genauigkeit von größter Bedeutung sind, um eine zuverlässige Leistung in Hightech-Anwendungen zu gewährleisten.
Optische und Lasersysteme: In optischen und Lasertechnologien eingesetzt, bei denen eine präzise Positionierung und Stabilität erforderlich sind.
Diese Anwendungen unterstreichen die Vielseitigkeit und Bedeutung von Saphir-Liftenpins in verschiedenen Hightech- und Industrieprozessen.