• Fusionssilika-Wafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll Dicke 750um±25um Ra ≤ 0,5 nm TTV ≤ 10um
  • Fusionssilika-Wafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll Dicke 750um±25um Ra ≤ 0,5 nm TTV ≤ 10um
  • Fusionssilika-Wafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll Dicke 750um±25um Ra ≤ 0,5 nm TTV ≤ 10um
  • Fusionssilika-Wafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll Dicke 750um±25um Ra ≤ 0,5 nm TTV ≤ 10um
  • Fusionssilika-Wafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll Dicke 750um±25um Ra ≤ 0,5 nm TTV ≤ 10um
Fusionssilika-Wafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll Dicke 750um±25um Ra ≤ 0,5 nm TTV ≤ 10um

Fusionssilika-Wafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll Dicke 750um±25um Ra ≤ 0,5 nm TTV ≤ 10um

Produktdetails:

Herkunftsort: China
Markenname: ZMSH
Zertifizierung: Rohs
Bestpreis Kontakt

Detailinformationen

Material: SiO2, geschmolzenes Silizium (geschmolzenes Quarz) Zulassung: JGS1 JGS2 (optisch geschmolzenes Silizium)
Durchmesser: 8 Zoll 12 Zoll Stärke: 750 mm±25 mm
Primäre Wohnung:: 16 +/- 2 mm (nur primär flach) Oberflächenpolnisch: Doppelseitig poliert (DSP) mit Oberflächenrauheit Ra < 1 nm sowohl auf der Oberfläche als auch auf d
Oberflächenbearbeitung: S/D 20/10 TTV: :">< 10="" um="">
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8 Zoll geschmolzenes Silizium Wafer

,

Fusionssiliziumwafer JGS1

,

12 Zoll geschmolzenes Silizium Wafer

Produkt-Beschreibung

 
Fusionssilika-Wafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll Dicke 750um±25um Ra ≤ 0,5 nm TTV ≤ 10um
 
Schmelzsilikwafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll
 
BF33-Wafer, eine Form von Borosilikatglas, werden wegen ihrer hohen Widerstandsfähigkeit gegen thermische Stoßbelastungen und chemische Korrosion geschätzt.und medizinische Anwendungen aufgrund ihrer hervorragenden Haltbarkeit und optischen EigenschaftenWie bei JGS1 und JGS2 sind die BF33-Wafer in 8- und 12-Zoll-Größen erhältlich, um verschiedene industrielle Bedürfnisse zu erfüllen.Ihre Fähigkeit, die Stabilität bei hohen Temperaturen zu bewahren, macht sie zu einer bevorzugten Wahl in Umgebungen, in denen eine präzise thermische Steuerung erforderlich ist, was zur Zuverlässigkeit und Effizienz fortschrittlicher technologischer Systeme beiträgt.
 
Fusionssilika-Wafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll Dicke 750um±25um Ra ≤ 0,5 nm TTV ≤ 10um 0
 


 
Silikon-Wafer mit geschmolzener Silikon-Wafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll
 
Silikonplatten, darunter JGS1, JGS2 und BF33, besitzen mehrere verschiedene Eigenschaften, die sie in Hightech-Industrien wertvoll machen:

  1. JGS1:

    • UV-Übertragung: Ausgezeichnet, insbesondere bei tiefen UV-Strahlen (Wellenlängen unter 200 nm).
    • Thermische Ausdehnung: Sehr niedrig, was es gegen Temperaturschwankungen widerstandsfähig macht.
    • Chemische Resistenz: Beständig gegen Säuren und andere ätzende Stoffe.
    • Anwendungen: Geeignet für UV-Optik, Lasersysteme und Halbleiterherstellung.
  2. JGS2:

    • Übertragung: Hohe Übertragbarkeit im sichtbaren und nahen Infrarot-Spektrum (NIR).
    • Wärmestabilität: Höhere Widerstandsfähigkeit gegen thermische Veränderungen im Vergleich zu JGS1.
    • Haltbarkeit: Widerstandsfähig gegen extreme Temperaturen und Wärmeschocks.
    • Anwendungen: Ideal für IR-Optik, Hochtemperaturumgebungen und Präzisionsinstrumenten.
  3. BF33 (Borosilikatglas):

    • Wärmeschlagfestigkeit: Ausgezeichnet, mit einem höheren Wärmeausdehnungskoeffizienten als JGS-Wafer.
    • Chemische Resistenz: Beständig gegen Alkalien und Säuren.
    • Optische Eigenschaften: Gute Lichtübertragung im sichtbaren Spektrum.
    • Anwendungen: Häufig in Optik, Elektronik und medizinischen Anwendungen verwendet, bei denen langlebige Glaskomponenten erforderlich sind.

Zu den verfügbaren Größen gehören Standard-Wafer mit einer Größe von 8 Zoll und 12 Zoll, die je nach Bedarf der Branche angepasst werden können.
 


 
Fusionierte Siliziumwafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll Anwendungen
 
Silikonwafer wie JGS1, JGS2 und BF33 werden aufgrund ihrer unterschiedlichen Eigenschaften in verschiedenen Branchen weit verbreitet.

  1. JGS1 Fusionssilikawafer:

    • UV-Optik: JGS1 ist im tiefen ultravioletten (UV) Bereich hochtransparent und somit ideal für UV-Linsen, Fenster und optische Komponenten in Lasersystemen und Photolithographie geeignet.
    • Herstellung von Halbleitern: Häufig in Fotomasken-Substraten, Präzisionsoptik und Lithographieprozessen eingesetzt aufgrund seiner geringen thermischen Ausdehnung und seiner hervorragenden chemischen Beständigkeit.
    • Lasersysteme: Verwendet in Hochleistungslasersystemen, bei denen UV-Transparenz und thermische Stabilität unerlässlich sind.
    • Wissenschaftliche Forschung: Wird in hochpräzisen Instrumenten und Analysegeräten eingesetzt, bei denen eine überlegene UV-Übertragung erforderlich ist.
  2. JGS2 Fusionssilikawafer:

    • Infrarot-Optik: Die hohe Übertragung in den sichtbaren und nahen Infrarot-Regionen (NIR) macht JGS2 ideal für IR-Sensoren, Fenster und Linsen in wissenschaftlichen Instrumenten und industriellen Anwendungen.
    • Hochtemperaturanwendungen: Die außergewöhnliche thermische Stabilität von JGS2 ̇ macht es für Ofenfen, Hochtemperaturumgebungen und extreme Bedingungen geeignet.
    • Präzisionsoptische Instrumente: Häufig in Instrumenten verwendet, die sowohl optische Klarheit als auch Widerstand gegen thermische Ausdehnung und mechanische Belastungen erfordern.
  3. BF33 Glaswafer aus Borosilikat:

    • Optische und elektronische Geräte: Aufgrund seiner hohen Wärmeschockbeständigkeit und chemischen Haltbarkeit wird BF33 in der Anzeigetechnik, Sensoren und elektronischen Komponenten eingesetzt.
    • Medizinische und Laborgeräte: Ideal für medizinische Diagnostik, Laborglaswaren und Analysegeräte, die chemische Beständigkeit und optische Klarheit erfordern.
    • Industrieanwendungen: Häufig in industriellen optischen Geräten und Umweltüberwachungsgeräten eingesetzt, wo mechanische und chemische Haltbarkeit wichtig ist.

Standardgrößen: JGS1, JGS2 und BF33-Wafer sind in der Regel in8 Zollund12 ZollSie können jedoch angepasst werden, um spezifische industrielle Anforderungen zu erfüllen, insbesondere in Bereichen wie Optik, Halbleiterherstellung, Luft- und Raumfahrt, Medizinprodukte und Forschung.
 


 
Fusionierte Siliciumwafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll ̇s Foto
 
Fusionssilika-Wafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll Dicke 750um±25um Ra ≤ 0,5 nm TTV ≤ 10um 1Fusionssilika-Wafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll Dicke 750um±25um Ra ≤ 0,5 nm TTV ≤ 10um 2
Fusionssilika-Wafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll Dicke 750um±25um Ra ≤ 0,5 nm TTV ≤ 10um 3Fusionssilika-Wafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll Dicke 750um±25um Ra ≤ 0,5 nm TTV ≤ 10um 4

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Ich bin daran interessiert Fusionssilika-Wafer JGS1 JGS2 BF33 8 Zoll 12 Zoll Dicke 750um±25um Ra ≤ 0,5 nm TTV ≤ 10um Könnten Sie mir weitere Details wie Typ, Größe, Menge, Material usw. senden?
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