• Mikrojet-Lasergeräte zur hochpräzisen Waferschneidung AR-Linsenverarbeitung mit Siliziumkarbid
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Mikrojet-Lasergeräte zur hochpräzisen Waferschneidung AR-Linsenverarbeitung mit Siliziumkarbid

Mikrojet-Lasergeräte zur hochpräzisen Waferschneidung AR-Linsenverarbeitung mit Siliziumkarbid

Produktdetails:

Herkunftsort: China
Markenname: ZMSH

Zahlung und Versand AGB:

Min Bestellmenge: 2
Zahlungsbedingungen: T/T
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Detailinformationen

Volumen der Arbeitsplatte:: 300*300*150 Positionierungsgenauigkeit μm:: +/-5
Wiederholte Positionsgenauigkeit μm:: +/-2 Typ der numerischen Steuerung:: DPSS Nd:YAG
Hervorheben:

Verarbeitung von Linsen aus Siliziumkarbid

,

Mikrojet-Laserausrüstung

,

Hochpräzise Mikrojet-Laser-Ausrüstung

Produkt-Beschreibung

Produkteinführung

 

Microjet-Lasertechnologie ist eine Kombination aus Lasertechnologie und hochgeschwindigem Wasserstrahl, deren Kern in der Verwendung von Laserstrahlfokus in Verbindung mit Hochgeschwindigkeitswasserstrahl liegt.Durch den Wasserstrahlführer Laser, der genau auf die Oberfläche des Werkstücks wirktDiese Technologie hat erhebliche Vorteile im Bereich der Verarbeitung von harten und brüchigen Materialien.und zeigt auch ein breites Anwendungsspektrum in vielen Bereichen wie Halbleiter, Luft- und Raumfahrt und Medizinprodukte.

 

Die Ausrüstung für die Microjet-Lasertechnologie besteht hauptsächlich aus einem Lasersystem, einem Leichtwasser-Kopplungssystem, einem hochpräzisen Werkzeugmaschinensystem, einem reinen Wasser-/Hochdruckpumpensystem,visuelle Identifizierung und elektrische Steuerung von LeichtwasserwerkzeugmaschinenUnter anderem verwendet das Lasersystem einen festen Nanosekundenlaser mit einer Wellenlänge von 532/1064 nm und erzielt eine hohe Leistungsausgabe durch Frequenzdoppelungstechnologie.Das optische Wasserkopplungssystem überträgt den Laserstrahl durch die optische Faser und ist mit dem Hochgeschwindigkeitswasserstrahl gekoppelt, um den Effekt der Kühlung und Leitung des Laserstrahls zu erzielen.

 

 

Mikrojet-Lasergeräte zur hochpräzisen Waferschneidung AR-Linsenverarbeitung mit Siliziumkarbid 0Mikrojet-Lasergeräte zur hochpräzisen Waferschneidung AR-Linsenverarbeitung mit Siliziumkarbid 1

 

 

Hauptvorteil

 

Das Funktionsprinzip der Mikrojetlasertechnologie besteht darin, den Laserstrahl in den Hochgeschwindigkeitswasserstrahl zu fokussieren, wodurch ein totaler Reflexionseffekt entsteht.so dass die Laserenergie gleichmäßig in der Innenwand der Wassersäule verteilt wirdWenn der Laserstrahl die Oberfläche des Werkstücks erreicht, wird er durch den Wasserstrahl geleitet und abgekühlt, um ein präzises Schneiden oder Bearbeiten zu erreichen.aber auch materielle Verluste und hitzebelastete Bereiche effektiv reduziert.

 

 

Mikrojet-Lasergeräte zur hochpräzisen Waferschneidung AR-Linsenverarbeitung mit Siliziumkarbid 2

 

 

Spezifikationen

 

Volumen der Arbeitsplatte 300*300*150 400*400*200
Lineare Achse XY Linearmotor Linearmotor
Lineare Achse Z 150 200
Positionierungsgenauigkeit μm +/-5 +/-5
Wiederholte Positionierungsgenauigkeit μm +/-2 +/-2
Beschleunigung G 1 0.29
Numerische Steuerung 3 Achsen /3+1 Achsen /3+2 Achsen 3 Achsen /3+1 Achsen /3+2 Achsen
Typ der numerischen Steuerung DPSS Nd:YAG DPSS Nd:YAG
Wellenlänge nm mit einem Durchmesser von mit einem Durchmesser von
Nennleistung W 50/100/200 50/100/200
Wasserstrahl 40 bis 100 40 bis 100
Druckbar der Düse 50 bis 100 50 bis 600
Abmessungen (Werkzeugmaschine) (Breite * Länge * Höhe) mm 1445*1944*2260 1700*1500*2120
Größe (Steuerfach) (W * L * H) 700 x 2500 x 1600 700 x 2500 x 1600
Gewicht (Einrichtung) T 2.5 3
Gewicht (Steuerfach) KG 800 800
Verarbeitungskapazität

Oberflächenrauheit Ra≤1,6um

Öffnungsgeschwindigkeit ≥ 1,25 mm/s

Schnittumfang ≥ 6 mm/s

Lineare Schneidgeschwindigkeit ≥ 50 mm/s

Oberflächenrauheit Ra≤1,2um

Öffnungsgeschwindigkeit ≥ 1,25 mm/s

Schnittumfang ≥ 6 mm/s

Lineare Schneidgeschwindigkeit ≥ 50 mm/s

 

Für Galliumnitridkristalle, Halbleitermaterialien mit ultraweiten Bandbreiten (Diamant/Galliumoxid), Raumfahrtspezialmaterialien, LTCC-Kohlenstoffkeramik, Photovoltaik,Verarbeitung von Scintillatorkristallen und anderen Stoffen.

Anmerkung: Die Verarbeitungskapazität variiert je nach Materialeigenschaften

 

 

Anwendungen

 

Verarbeitung von Halbleitern der dritten Generation und Luftfahrtmaterialien: zur Präzisionsverarbeitung von Halbleitermaterialien der dritten Generation wie Siliziumcarbid und Galliumnitrid verwendet,sowie die Verarbeitung komplexer Teile von Materialien wie Superlegierungen und keramischen Substraten im Luft- und Raumfahrtbereich.

Verarbeitung von Teilen von Medizinprodukten: geeignet für das hochpräzise Schneiden und Verarbeiten von Herz-Kreislauf-Stents, Implantaten, chirurgischen Werkzeugen und anderen medizinischen Instrumenten.

Ingotschneiden: Für das effiziente Schneiden von Halbleitermaterialien wie Siliziumwafern und Siliziumkarbid-Ingotschnitten verwendet.

Verarbeitung von harten und zerbrechlichen Materialien: einschließlich Diamanten, Siliziumnitrid und andere Materialien zur Verarbeitung komplexer Teile.

 

ZMSH-Service

 

Personalisierte Lösungen: Bereitstellung von personalisierten Ausrüstungskonzepten und Prozessoptimierung entsprechend den Kundenanforderungen.
Technische Unterstützung und Ausbildung: Bereitstellung von Ausbildungsmaßnahmen und technischer Unterstützung für Kunden, um sicherzustellen, dass die Kunden die Ausrüstung effizient nutzen können.
Service nach dem Verkauf: Bereitstellung langfristiger technischer Wartung und Ersatzteilversorgung, um den stabilen Betrieb der Anlagen zu gewährleisten.
F & E-Zusammenarbeit: Gemeinsame Entwicklung neuer Technologien oder neuer Verfahren mit Kunden zur Förderung der industriellen Modernisierung.

 

 

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