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Detailinformationen |
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| Material: | Einzelner Crystal Sapphire | Dimensions: | Customized |
|---|---|---|---|
| Oberflächenrauheit: | Ra ≤ 0,02 μm | Working Temperature: | >2000°C |
| Spitzenform: | Flach, rund, verjüngt | Mounting: | Mechanical or Threaded |
| Hervorheben: | Halbleiter-Wafer-Handling-Safir-Hefter-Stift,Maßgeschneiderte Größen Saphirheber,Hochreine Saphir-Hofspinne |
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Produkt-Beschreibung
Produkteinführung
Ein Saphir-Hochstapler ist ein aus hochreinem Einkristallsafir hergestellter Hochstapler, der hauptsächlich in Halbleiter-Herstellungsgeräten zur Unterstützung und Bewegung von Wafern verwendet wird.Dank der hervorragenden Widerstandsfähigkeit gegen hohe Temperaturen, chemische Stabilität und extreme Härte, kann der Saphirheber in rauen Umgebungen eine stabile Leistung aufrechterhalten.Verlängert die Lebensdauer der Anlagen, und verbessert den Gesamtprozessertrag.
Grundprinzip
Das Grundprinzip eines Saphirheberspinns besteht darin, Wafer während der Verarbeitung genau zu heben oder zu senken, um eine richtige Positionierung zu gewährleisten.Mehrere Saphirheberspitzen arbeiten in der Regel zusammen, um zu verhindern, dass die Wafer verzerrt oder beschädigt wird.Da der Saphirhebepin hohen Temperaturen, Vakuum und korrosive Umgebungen standhält, bietet er eine viel längere Lebensdauer und eine höhere Zuverlässigkeit als herkömmliche Materialien.
Spezifikationen
| Artikel 1 | Spezifikation |
|---|---|
| Material | Einkristallsafir |
| Abmessungen | Individualisiert |
| Oberflächenrauheit | Ra ≤ 0,02 μm |
| Betriebstemperatur | > 2000°C |
| Koeffizient der thermischen Ausdehnung | 50,8 × 10−6 /°C |
| Flexuralstärke | ≥ 400 MPa |
| Transparenz | Hohe Durchlässigkeit im sichtbaren Bereich |
| Korrosionsbeständigkeit | Ausgezeichnet. |
| Spitzenform | Flach, rund und verjüngt |
| Montieren | Maschinen und Apparate, für die Herstellung von Maschinen oder Apparaten |
Anwendungen
Saphir-Lifthäufchen werden häufig in Geräten zum Ätzen (Etch), zur chemischen Dampfdeposition (CVD), zur physikalischen Dampfdeposition (PVD) und zur atomaren Schichtdeposition (ALD) verwendet.und Kühlung, Saphirheber spielen eine entscheidende Rolle bei der Stützung und Positionierung.Der Saphirheber ist zu einem Kernbestandteil geworden..
Fragen und Antworten
F1: Warum wählen Sie einen Saphirheber anstelle von Keramik oder Metall?
A1: Der Saphirheber bietet eine höhere chemische Beständigkeit und thermische Stabilität und kann langfristig in korrosiven Gasen und hochtemperaturen Umgebungen betrieben werden.
F2: Erzeugt der Saphirheber während des Gebrauchs Partikel?
A2: Aufgrund seiner extrem glatten Oberfläche hat der Saphirheber ein extrem geringes Partikelrisiko, was ihn für ultra-saubere Verfahren ideal macht.
F3: Benötigen verschiedene Maschinen maßgeschneiderte Saphirheber?
A3: Ja, je nach Maschinenmodell und Prozessanforderungen muss der Saphirheber oft in Größe, Form und Anschlussoberfläche angepasst werden.
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