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Einzelheiten zu den Produkten

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wissenschaftliche Laborausrüstung
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Ionenstrahl-Poliermaschine für SiC, Saphir, Quarz, YAG

Ionenstrahl-Poliermaschine für SiC, Saphir, Quarz, YAG

Markenbezeichnung: ZMSH
MOQ: 1
Preis: by case
Verpackungsdetails: custom cartons
Zahlungsbedingungen: T/T
Ausführliche Information
Place of Origin:
China
Processing Method:
Ion sputtering material removal under vacuum
Processing Type:
Non-contact surface figuring & polishing
Available Materials:
Quartz, microcrystalline glass, K9, sapphire, YAG, silicon carbide, single-crystal silicon carbide, silicon, germanium, aluminum, stainless steel, titanium alloy, etc.
Max Workpiece Size:
Φ4000 mm
Motion Axes:
3-axis / 5-axis
Removal Stability:
≥95%
Supply Ability:
By case
Hervorheben:

SiC-Saphir-Ionenstrahlpolierer

,

Ionenstrahl-Poliermaschine für Halbleiter

,

Wissenschaftliche Laborausrüstung mit Ionenstrahl

Produkt-Beschreibung

Ionenstrahlpoliermaschine
Präzision auf atomarer Ebene · Berührungslose Verarbeitung · Ultraschleimige Oberflächen

 


Produktübersicht der Ionenstrahlpoliermaschine
 

Die CNC-Ionenstrahl-Figur-/Poliermaschine arbeitet nach dem PrinzipIonensputternUnter Vakuumbedingungen erzeugt die Ionenquelle einen Plasmastrahl, der in einen Ionenstrahl beschleunigt wird, der die Werkstückoberfläche bombardiert, um Material auf atomarer Ebene zu entfernen.mit einer Breite von mehr als 20 mm,.


Diese Technologie bietetBerührungslose Verarbeitung, frei von mechanischen Belastungen oder Untergrundschäden, und ist ideal für Hochpräzisionsoptik in der Astronomie, Luft- und Raumfahrt, Halbleiter und wissenschaftliche Forschung.

 

Ionenstrahl-Poliermaschine für SiC, Saphir, Quarz, YAG 0    Ionenstrahl-Poliermaschine für SiC, Saphir, Quarz, YAG 1

 


Arbeitsprinzipmit einer Breite von mehr als 20 mm,

  • IonenproduktionInertes Gas (z. B. Argon) wird in die Vakuumkammer eingeführt und durch ein elektrisches Entladungsfeld ionisiert.

 

  • Ionenbeschleunigung und StrahlbildungDie Ionen werden auf Hunderte oder Tausende von Elektronenvolt (eV) beschleunigt und durch Fokussierung optisch zu einem stabilen Strahlpunkt geformt.

 

  • MaterialentfernungDer Ionenstrahl spritzt die Oberflächenatome ohne chemische Reaktionen.

 

  • Fehlermessung und Pfadplanung Die Fehler der Oberflächenbilder werden mittels Interferometrie gemessen, dann werden die Entfernungsfunktionen zur Berechnung der Lichtstrahlverweildauer und zur Erstellung von Verarbeitungspfaden verwendet.

 

  • Korrektur in geschlossener Schleife¢ Verarbeitungs- und Messzyklen werden wiederholt, bis die RMS/PV-Ziele erreicht sind.

 Ionenstrahl-Poliermaschine für SiC, Saphir, Quarz, YAG 2

 

 


Eigenschaften der Ausrüstungmit einer Breite von mehr als 20 mm,

  • Berührungslose Verarbeitung¢ in der Lage, alle Oberflächenformen zu behandeln

  • Stabile Entfernungsrate️ Korrekturgenauigkeit unterhalb des Nanometerbereichs

  • Keine Untergrundschäden️ Optische Integrität bewahrt

  • Hohe Konsistenz- Mindeste Schwankungen zwischen Materialien unterschiedlicher Härte

  • Niedrigfrequenz-/MittelfrequenzkorrekturKeine Erstellung von Fehlern mit mittlerer hoher Frequenz

  • Niedrige Wartungskosten Langfristiger Dauerbetrieb mit minimalem Ausfallzeitraum

 


Ausrüstungskapazitätmit einer Breite von mehr als 20 mm,

Verfügbare Flächen:

  • Einfache optische Komponenten: Ebene, Kugel, Prisma

  • Komplexe optische Komponenten: symmetrische/asymmetrische Asphäre, Asphäre außerhalb der Achse, zylindrische Oberfläche

  • Spezielle optische Komponenten: Ultradünne Optik, Lattenoptik, Hemisphärische Optik, Konforme Optik, Phasenplatten, freie Oberflächen, andere individuell angefertigte Formen

Verfügbare Materialien:

  • Gängiges optisches Glas: Quarz, Mikrokristalline, K9 usw.

  • Infrarotoptik: Silizium, Germanium usw.

  • Metalle: Aluminium, Edelstahl, Titanlegierung usw.

  • Kristallstoffe: YAG, einkristallines Siliziumkarbid usw.

  • Andere harte/brüchige Materialien: Siliziumkarbid usw.

Oberflächenqualität / Genauigkeit:

  • PV < 10 nm

  • RMS ≤ 0,5 nm

 


Produktvorteilemit einer Breite von mehr als 20 mm,

  • Präzision der Entfernung auf atomarer Ebene¢ Ermöglicht ultragleite Oberflächen für anspruchsvolle optische Systeme

  • Vielseitige FormkompatibilitätVon der Flachoptik zu komplexen Freiformen

  • Breite MaterialanpassungsfähigkeitVon Präzisionskristallen bis hin zu harter Keramik und Metallen

  • Große BlendefähigkeitProzessoptik bis zu Φ4000 mm

  • Erweiterter stabiler Betrieb- 3-5 Wochen ohne Wartung

 


Typische Modelle von Ionstrahlpoliermaschinen

  • IBF350 / IBF750 / IBF1000 / IBF1600 / IBF2000 / IBF4000

  • Bewegungsachsen: 3 Achsen / 5 Achsen

  • Maximale Werkstückgröße: bis zu Φ4000 mm

 

Artikel Spezifikation
Verarbeitungsverfahren Entfernung von Ionenspritzermaterial unter Vakuum
Art der Verarbeitung Berührungslose Oberflächenaufmachung und Polierung
Verfügbare Flächen Fläche, Kugel, Prisma, Asphäre, Asphäre außerhalb der Achse, zylindrische Oberfläche, Freifläche
Verfügbare Materialien Quarz, mikrokristallines Glas, K9, Saphir, YAG, Siliziumkarbid, einkristallines Siliziumkarbid, Silizium, Germanium, Aluminium, Edelstahl, Titanlegierung usw.
Maximale Werkstückgröße Φ4000 mm
Bewegungsachsen 3 Achsen / 5 Achsen
Stabilität beim Entfernen ≥ 95%
Oberflächengenauigkeit PV < 10 nm; RMS ≤ 0,5 nm (typische RMS < 1 nm; PV < 15 nm)
Verarbeitungskapazität Korrigiert Fehler mit niedriger/mittler Frequenz ohne Fehler mit mittlerer/höher Frequenz
Dauerbetrieb 3-5 Wochen ohne Wartung der Vakuumkammer
Kosten für die Wartung Niedrig
Typische Modelle IBF350 / IBF750 / IBF1000 / IBF1600 / IBF2000 / IBF4000

 


 

Fall 1 Standardflächenspiegel

  • Werkstück: D630 mm Quarzplatte

  • Ergebnis: PV 46,4 nm; RMS 4,63 nm

- Ich weiß.Ionenstrahl-Poliermaschine für SiC, Saphir, Quarz, YAG 3

Fall 2 X-Strahlenspiegel

 

  • Werkstück: 150 × 30 mm Silikonplatte

  • Ergebnis: PV 8,3 nm; RMS 0,379 nm; Neigung 0,13 μrad

- Ich weiß.Ionenstrahl-Poliermaschine für SiC, Saphir, Quarz, YAG 4

Fall 3 Auswärtsspiegel

  • Werkstück: D326 mm Außenachsspiegel

  • Ergebnis: PV 35,9 nm; RMS 3,9 nm

Ionenstrahl-Poliermaschine für SiC, Saphir, Quarz, YAG 5


Anwendungsbereiche der Ionenstrahlpoliermaschine

  • Astronomische Optik

  • Weltraumoptik¢ Satellitenfernerkundung, Bildgebung aus dem Weltraum

  • Hochleistungslasersysteme¢ ICF-Optik, Strahlformung

  • HalbleiteroptikLinsen und Spiegel zur Lithographie

  • Wissenschaftliche InstrumenteRöntgen-/Neutronenspiegel, Standardkomponenten für die Messtechnik