Ionenstrahlpoliermaschine
Präzision auf atomarer Ebene · Berührungslose Verarbeitung · Ultraschleimige Oberflächen

Produktübersicht der Ionenstrahlpoliermaschine
 

Die CNC-Ionenstrahl-Figur-/Poliermaschine arbeitet nach dem PrinzipIonensputternUnter Vakuumbedingungen erzeugt die Ionenquelle einen Plasmastrahl, der in einen Ionenstrahl beschleunigt wird, der die Werkstückoberfläche bombardiert, um Material auf atomarer Ebene zu entfernen.mit einer Breite von mehr als 20 mm,.

Diese Technologie bietetBerührungslose Verarbeitung, frei von mechanischen Belastungen oder Untergrundschäden, und ist ideal für Hochpräzisionsoptik in der Astronomie, Luft- und Raumfahrt, Halbleiter und wissenschaftliche Forschung.

Arbeitsprinzipmit einer Breite von mehr als 20 mm,

• IonenproduktionInertes Gas (z. B. Argon) wird in die Vakuumkammer eingeführt und durch ein elektrisches Entladungsfeld ionisiert.

• Ionenbeschleunigung und StrahlbildungDie Ionen werden auf Hunderte oder Tausende von Elektronenvolt (eV) beschleunigt und durch Fokussierung optisch zu einem stabilen Strahlpunkt geformt.

• MaterialentfernungDer Ionenstrahl spritzt die Oberflächenatome ohne chemische Reaktionen.

• Fehlermessung und Pfadplanung Die Fehler der Oberflächenbilder werden mittels Interferometrie gemessen, dann werden die Entfernungsfunktionen zur Berechnung der Lichtstrahlverweildauer und zur Erstellung von Verarbeitungspfaden verwendet.

• Korrektur in geschlossener Schleife¢ Verarbeitungs- und Messzyklen werden wiederholt, bis die RMS/PV-Ziele erreicht sind.

Eigenschaften der Ausrüstungmit einer Breite von mehr als 20 mm,

• Berührungslose Verarbeitung¢ in der Lage, alle Oberflächenformen zu behandeln

• Stabile Entfernungsrate️ Korrekturgenauigkeit unterhalb des Nanometerbereichs

• Keine Untergrundschäden️ Optische Integrität bewahrt

• Hohe Konsistenz- Mindeste Schwankungen zwischen Materialien unterschiedlicher Härte

• Niedrigfrequenz-/MittelfrequenzkorrekturKeine Erstellung von Fehlern mit mittlerer hoher Frequenz

• Niedrige Wartungskosten Langfristiger Dauerbetrieb mit minimalem Ausfallzeitraum

Ausrüstungskapazitätmit einer Breite von mehr als 20 mm,

Verfügbare Flächen:

• Einfache optische Komponenten: Ebene, Kugel, Prisma

• Komplexe optische Komponenten: symmetrische/asymmetrische Asphäre, Asphäre außerhalb der Achse, zylindrische Oberfläche

• Spezielle optische Komponenten: Ultradünne Optik, Lattenoptik, Hemisphärische Optik, Konforme Optik, Phasenplatten, freie Oberflächen, andere individuell angefertigte Formen

Verfügbare Materialien:

• Gängiges optisches Glas: Quarz, Mikrokristalline, K9 usw.

• Infrarotoptik: Silizium, Germanium usw.

• Metalle: Aluminium, Edelstahl, Titanlegierung usw.

• Kristallstoffe: YAG, einkristallines Siliziumkarbid usw.

• Andere harte/brüchige Materialien: Siliziumkarbid usw.

Oberflächenqualität / Genauigkeit:

• PV < 10 nm

• RMS ≤ 0,5 nm

Produktvorteilemit einer Breite von mehr als 20 mm,

• Präzision der Entfernung auf atomarer Ebene¢ Ermöglicht ultragleite Oberflächen für anspruchsvolle optische Systeme

• Vielseitige FormkompatibilitätVon der Flachoptik zu komplexen Freiformen

• Breite MaterialanpassungsfähigkeitVon Präzisionskristallen bis hin zu harter Keramik und Metallen

• Große BlendefähigkeitProzessoptik bis zu Φ4000 mm

• Erweiterter stabiler Betrieb- 3-5 Wochen ohne Wartung

Typische Modelle von Ionstrahlpoliermaschinen

• IBF350 / IBF750 / IBF1000 / IBF1600 / IBF2000 / IBF4000

• Bewegungsachsen: 3 Achsen / 5 Achsen

• Maximale Werkstückgröße: bis zu Φ4000 mm

Fall 1 Standardflächenspiegel

• Werkstück: D630 mm Quarzplatte

• Ergebnis: PV 46,4 nm; RMS 4,63 nm

- Ich weiß.

Fall 2 X-Strahlenspiegel

• Werkstück: 150 × 30 mm Silikonplatte

• Ergebnis: PV 8,3 nm; RMS 0,379 nm; Neigung 0,13 μrad

- Ich weiß.

Fall 3 Auswärtsspiegel

• Werkstück: D326 mm Außenachsspiegel

• Ergebnis: PV 35,9 nm; RMS 3,9 nm

Anwendungsbereiche der Ionenstrahlpoliermaschine

• Astronomische Optik– Large telescope primary/secondary mirrors

• Weltraumoptik¢ Satellitenfernerkundung, Bildgebung aus dem Weltraum

• Hochleistungslasersysteme¢ ICF-Optik, Strahlformung

• HalbleiteroptikLinsen und Spiegel zur Lithographie

• Wissenschaftliche InstrumenteRöntgen-/Neutronenspiegel, Standardkomponenten für die Messtechnik

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Über uns

ZMSH ist auf die Entwicklung, Produktion und den Verkauf von Spezialglas und neuen Kristallmaterialien spezialisiert.Wir bieten Sapphire optische Komponenten an.Wir sind ein führendes Unternehmen in der Verarbeitung von Produkten, die in der Verarbeitung nicht standardisierter Produkte ausgezeichnet sind.,Ziel ist es, ein führendes Hightech-Unternehmen für optoelektronische Materialien zu sein.