Produkteinführung
Die Waferverdünnungsmaschine arbeitet, indem sie die Wafer befestigt und mit einem schnellen, sich drehenden Schleifrad angeschlossen wird.Diese Waferverdünnungsmaschine verfügt über fortschrittliche Steuerungssysteme zur Echtzeitüberwachung von Schleifdruck und -dickeEin integrierter Kühl- und Reinigungsmechanismus verbessert den Verarbeitungsertrag und minimiert Schäden.
Parameter | Spezifikation | Anmerkungen |
Wafergröße | Ø2" bis Ø12" (optional: Ø8" und höher) | Haltbarkeit bis zu 300 mm |
Ausdünnungsbereich | 50 μm bis 800 μm | Mindestmögliche Dicke: 20 μm (abhängig vom Material) |
Genauigkeit der Dicke | ± 1 μm | mit einer Dicke von nicht mehr als 10 mm |
Oberflächenrauheit | < 5 nm Ra (nach Feinschleifen) | Abhängig von Material und Radart |
Typ des Schleifrads | Diamantbecherrad | Ersetzbar |
Spindelgeschwindigkeit | 500 bis 6000 U/min | Schrittlose Drehzahlregelung |
Staubsauger | Unterstützt | Poröse Keramik-Vakuumschub |
Kühlsystem | Wasser + Luftkühlung | Verhindert thermische Schäden |
Betriebsmodus | Touchscreen mit PLC-Steuerung | Einstellbare und programmierbare Parameter |
Zusätzliche Merkmale | Automatisches Be- und Entladen, Dickenüberwachung, Ausrichtung des CCD | Anpassbar |
Stromversorgung | AC 380V ±10%, 50/60Hz, dreiphasig | Verfügbare benutzerdefinierte Spannungsoptionen |
Maschinendimensionen | Bei der Anlage sind die folgenden Angaben zu beachten: | Kann je nach Modell leicht variieren |
Gewicht | Ungefähr 1500 kg | Ohne automatische Handhabung |
Die Waferverdünnungsmaschine wird in verschiedenen Halbleiterherstellungsprozessen eingesetzt, bei denen ultradünne Wafer erforderlich sind, z. B. 3D-IC-Verpackungen, Herstellung von Leistungseinrichtungen, Bildsensoren,und HF-ChipsDie Waferverdünnungsmaschine wird häufig mit Nachverdünnungsverfahren wie der Rückseitenmetallisierung kombiniert, um eine vollständige Verdünnungslösung zu liefern.
Darüber hinaus ist die Waferverdünnungsmaschine in folgenden Szenarien anwendbar:
Erweiterte Verpackung:Einschließlich FO-WLP, 2.5D und 3D-Verpackungen, bei denen dünnere Wafer eine höhere Integration und kürzere Verbindungen ermöglichen.
Herstellung von MEMS-GerätenDas Ausdünnen der Wafer verbessert die Sensorempfindlichkeit, indem die Strukturschicht freigesetzt wird.
Leistungshalbleiter:Materialien wie SiC und GaN erfordern eine Verdünnung der Wafer, um den Leitverlust zu reduzieren und die Wärmeabgabe zu verbessern.
LiDAR-Chips:Die Waferverdünnung unterstützt eine bessere optische Ausrichtung und elektrische Leistung.
Forschung und Entwicklung und Wissenschaft:Universitäten und Forschungseinrichtungen nutzen die Waferverdünnungsmaschine, um Halbleiterstrukturen zu erforschen und neue Materialien zu überprüfen.
F1:Welche Materialien kann diese Waferverdünnungsmaschine verarbeiten?
A1:Unsere Waferverdünnungsmaschine ist mit einer Vielzahl von Materialien kompatibel, darunter Silizium (Si), Siliziumkarbid (SiC), Galliumnitrid (GaN), Saphir, Galliumarsenid (GaAs) und mehr.
F2: Wie sorgt diese Waferverdünnungsmaschine für eine gleichmäßige Dicke?
A2: Es verwendet einen Präzisionsschleifkopf mit Echtzeitdickenüberwachung und adaptive Steuerungssysteme, um ein gleichbleibendes Ausdünnungsresultat zu erhalten.
F3: Wie groß ist der Dickenbereich dieser Waferverdünnungsmaschine?
A3: Wafer können je nach Material und Anwendungsbedarf auf 50 μm oder sogar dünner verdünnt werden.
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