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Einzelheiten zu den Produkten

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Saphirsubstrat
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4 Zoll 6 Zoll ein Flugzeug Saphir Wafer Einzelkristall für optische

4 Zoll 6 Zoll ein Flugzeug Saphir Wafer Einzelkristall für optische

Markenbezeichnung: ZMSH
Modellnummer: Safirwafer
MOQ: 10 Stück
Verpackungsdetails: Angepasste Paket
Zahlungsbedingungen: T/t
Ausführliche Information
Herkunftsort:
CHINA
Zertifizierung:
RoHS
Durchmesser:
4 Zoll 6 Zoll
Material:
Al2o3-Einkristall
Oberfläche:
ssp oder dsp
Dicke Toleranz:
±15um
Anpassen:
akzeptabel
Paket:
Reinigungsraum mit 100 Graden durch Vakuumverpackung
Hervorheben:

4inch sapphire wafer optical substrate

,

6inch single crystal sapphire wafer

,

plane sapphire wafers for optics

Produkt-Beschreibung

 

4 Zoll 6 ZollEine Safirwafer-FlächeEinzelkristall für Optik

 

Beschreibung der Saphirwafer:

 

Saphirwafer sind Einkristall-Aluminium-Oxid (Al2O3) Substrate, die für ihre außergewöhnliche Härte, thermische Stabilität, chemische Beständigkeit und optische Transparenz bekannt sind.Als eines der langlebigsten und stabilsten kristallinen Materialien, Saphir dient als kritisches Substrat und Schutzmaterial in fortgeschrittenen Halbleiter-, Optoelektronik- und optischen Anwendungen.mit einem breiten optischen Übertragungsbereich von Ultraviolett (UV) bis Infrarot (IR) Wellenlängen (ca. 190 nm bis 5 μm), Saphirwafer sind ideal für LEDs, Laserdioden und optische Komponenten, die sowohl optische Klarheit als auch mechanische Festigkeit erfordern.konstante Kristallqualität, und Verfügbarkeit in mehreren Ausrichtungen, einschließlich C-Ebene (0001), A-Ebene (11̅20), R-Ebene (1̅102),und M-Ebene (10̅10) ∆Saphir ist zum industriestandardmäßigen Substratmaterial für GaN-basierte Halbleiter und Hochleistungsoptische Systeme geworden.

 

                                                   4 Zoll 6 Zoll ein Flugzeug Saphir Wafer Einzelkristall für optische 0

 

 

Wichtige Vorteile von Saphirwafern:

 

Hohe Härte und Verschleißfestigkeit:

Saphir ist eines der härtesten bekannten Materialien und bietet eine ausgezeichnete Kratz- und Abriebfestigkeit, die auch unter rauen Betriebsbedingungen eine langlebige Haltbarkeit gewährleistet.

 

Hohe mechanische Festigkeit:

Mit seiner hervorragenden mechanischen Festigkeit und strukturellen Integrität ist der Saphir schadensbeständig und bei der Präzisionsverarbeitung und bei der Einbindung von Geräten leicht zu handhaben.

 

Hoher Schmelzpunkt:

Saphir weist eine außergewöhnliche thermische Stabilität auf und kann extrem hohen Temperaturen standhalten, was ihn für hochtemperaturbedingte Umgebungen und epitaxiale Wachstumsprozesse geeignet macht.

 

Breite Spektraltransparenz:

Saphir bietet eine ausgezeichnete Transparenz im sichtbaren bis nahe Infrarot-Spektrum und ist somit ideal für optische Fenster, Linsen und andere optische Präzisionskomponenten geeignet.

 

Überlegene photonische Eigenschaften:

Als ideales Substrat für LEDs, Laserdioden und andere optoelektronische Geräte unterstützt Saphir eine effiziente Photonentransmission und eine stabile Lichtemission.

 

Chemische Stabilität:

Saphir ist unlöslich in Wasser und sehr resistent gegen Säuren und Alkalien (außer Fluorwassersäure, Phosphorsäure und geschmolzenes Kaliumhydroxid).mit ausgezeichneter chemischer Trägheit für den Einsatz in ätzenden oder reaktiven Umgebungen.

 

Ausgezeichnete elektrische Isolierung:

Mit seinen hervorragenden dielektrischen Eigenschaften dient Saphir als ideales Dämmmaterial für Anwendungen, die einen hohen elektrischen Widerstand und eine hohe Stabilität erfordern.

 

 

 

Spezifikationen für ZMSH-Saphirwafer und zugehörige Produktempfehlungen:

 

Saphir Wafer 12 Zoll AL2O3Anpassung von DSP-SSP für Ihre Referenz

 

Spezifikation für ZMSH-Safirwafer
Eigentum 2 Zoll 3 Zoll. 4 Zoll 6 Zoll. 8 Zoll. 12 Zoll

Durchmesser
50.8 ± 0,1 mm 76.2±0.1 mm 100±0.1 mm 150±0.1 mm 200 ± 0,1 mm 300 ± 0,1 mm

Stärke
100±15um".
430 ± 15 um,
500±15um".
100±15um".
430 ± 15 um,
500±15um".
200±15um".
500 ± 15 um,
650±15um".
350±15um".
500 ± 15 um,
1000±15um".
700 ± 25 um
1600±25um
oder angepasst
725 ± 25 um
1000±25um
oder angepasst

Grobheit
Ra ≤ 0,2 nm Ra ≤ 0,2 nm Ra ≤ 0,2 nm Ra ≤ 0,2 nm Ra ≤ 0,3 nm Ra ≤ 0,5 nm

Warpgeschwindigkeit
≤ 10um ≤ 10um ≤ 10um ≤ 15um ≤ 30um ≤ 60 μm

TTV
≤ 3um ≤ 10um ≤ 10um ≤ 10um ≤ 10um ≤ 10um

Schrauben und Graben.
20/10 20/10 20/10 20/10 40/20 60/40
   
Polnisch DSP (doppelseitig poliert); SSP ((einseitig poliert)
   
Form Rund, flach 16 mm Längen 22 mm Längen 30/32,5 mm Längen 47,5 mm
Grenzform 45- Nein., C-Form
Material Steine und Pflaster
   
Anmerkungen Alle oben genannten Spezifikationen können auf Anfrage angepasst werden

 

 

Die Orientierungen und Anwendungen von Saphirwafern:

 

Die Hauptunterschiede zwischen Saphirwafern mit verschiedenenOrientierung der KristalleLiegen in ihrenKristallographische Ausrichtung, die ihreoptische, elektronische und physikalische Eigenschaften“wie z.B.Härte, Lichtdurchlässigkeit und piezoelektrische Reaktionin spezifische Richtungen. Zu den gängigen Orientierungen von Saphirwaffen gehörenC-Ebene ({0001}),A-Ebene ({11-20}),M-Ebene ({1-100}), undR-Ebene ({1-102}), die jeweils einzigartige Vorteile für verschiedene Anwendungen bieten, wieLaser, LEDs, Radiofrequenzgeräte und elektronische Komponenten.

 

Orientierung Anwendungen Merkmale und Vorteile
C-Flugzeug Substrate für Laser, LEDs und integrierte Schaltungen Die C-Ebene ist eine der glatten Oberflächen von Saphirkristallen und bietet eine hervorragende Gleichförmigkeit und optische Eigenschaften.Es wird üblicherweise als Substrat für die Herstellung und das epitaxiale Wachstum von Materialien wie Galliumnitrid (GaN) verwendet.
Ein Flugzeug. HF-Geräte, MEMS-Komponenten und optische Fenster The A-plane has optical and electrical properties distinct from those of the C-plane and is commonly used in the manufacturing of RF devices and MEMS components due to its excellent directional transparency in specific crystallographic orientations.
M-Ebene ({1-100}) Bestimmte mikroelektronische Geräte und Sensoren Das M-Flugzeug verfügt über eine einzigartige Kristallstruktur und elektrische Eigenschaften, die es für die Herstellung spezifischer Sensoren und mikroelektronischer Geräte geeignet machen.
R-Flugzeug Optische Komponenten und Mikrowellengeräte Die R-Ebene besitzt optische und elektrische Eigenschaften, die sich von denen der C-Ebene, der A-Ebene und der M-Ebene unterscheiden.und wird bei der Herstellung spezialisierter optischer Komponenten und Mikrowellengeräte verwendet.

 

 

 

Fragen und Antworten:

 

F: Wofür werden Saphirwafer verwendet?

 

A: Saphirwafer werden überall dort verwendet, wo optische Transparenz, thermische Stabilität, mechanische Festigkeit und chemische Beständigkeit unerlässlich sind.HF-Geräte, optische Systeme, Luftfahrttechnik und fortschrittliche Elektronik.

 

F: Wie ist die Kristallrichtung eines Saphirs?

 

A: Saphir ist ein einkristallines Aluminium-Oxid (Al2O3). Es hat eine hexagonale (trigonale) Kristallstruktur und gehört zum Rhomboedersystem, Raumgruppe R-3c.Saphir (α-Al2O3) ist ein hexagonaler Einzelkristall, der am häufigsten als C-Ebene (0001) für optische und epitaxiale Anwendungen orientiert wird, aber auch A-Fläche, R-Fläche und M-Fläche Schnitte sind abhängig von den gewünschten optischen, mechanischen oder Gitter-matching Eigenschaften verwendet.

 

F: Ist ein Saphirwafer durchsichtig?

 

A: Saphirwafer sind von ~170 nm (UV) bis ~5 μm (IR) transparent und bieten eine hervorragende optische Klarheit, hohe Härte und chemische Haltbarkeit.Sie sind ideal für optische und elektronische Anwendungen geeignet, bei denen Klarheit und Langlebigkeit erforderlich sind..