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Detailinformationen |
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| Reinheit: | 990,9999% (6N) oder mehr | Durchmesser: | 2 Zoll, 3 Zoll, 4 Zoll, 6 Zoll, |
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| Stärke: | Standarddicke oder nach Kundenanforderungen angepasst | Kristallrichtung: | Die Daten werden in der Tabelle 1 aufgeführt. |
| Orientierungs-Toleranz: | Genauigkeit ± 0,5° oder mehr | Ausmaß der Abweichung: | mit einer Präzision von ± 5 μm oder mehr |
| Hervorheben: | Mikrofabrikation Silikonkarbidwafer,Ultra-reine Silizium-Dunkle Wafer,Silikon-Dunkle Wafer der Halbleiterqualität |
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Produkt-Beschreibung
Beschreibung des Produkts
Unseremit einer Breite von nicht mehr als 20 mm,Das Produkt wird mit Hilfe fortschrittlicher Czochralski-Kristallwachstumstechnologie und Präzisionsschnitt- und Polierverfahren hergestellt,Gewährleistung einer äußerst hohen Reinheit und einer hervorragenden EinkristallstrukturDer Verunreinigungsgehalt ist extrem niedrig und entspricht den strengen Standards der Halbleiterindustrie.SilikonDie Waferform ist glatt und flach, mit gleichmäßiger Dicke, was bei der Herstellung von Mikroelektronik hochpräzise Lithographieneffekte gewährleistet.Das Produkt weist eine hohe thermische Stabilität und mechanische Festigkeit auf., die eine stabile Leistung in Hochtemperatur- und Hochdruckumgebungen bietet und somit für die Herstellung leistungsstarker Halbleitergeräte geeignet ist.
Anwendung
Integrierte Schaltkreisherstellung: Hochreine Siliziumwafer sind das Grundmaterial für die Herstellung verschiedener integrierter Schaltkreise wie Mikroprozessoren und Speichergeräte.
Solarzellen: Zur Herstellung von hocheffizienten Solarzellen, insbesondere monokristallinenSilikonSolarzellen.
LED-Fertigung: Bei der Herstellung von hochhellen, hocheffizienten Leuchtdioden (LEDs) verwendet.
Laserdioden: dienen als Substratmaterial für Laserdioden, die in Kommunikations-, medizinischen und industriellen Anwendungen verwendet werden.
Leistungshalbleiter: zur Herstellung von Hochleistungs- und Hochfrequenzhalbleiterschaltern und -richtern verwendet.
Sensorherstellung: Als Substrat zur Herstellung von Druck-, Temperatur-, chemischen und biologischen Sensoren verwendet.
Optische Komponenten: Für die Herstellung verschiedener optischer Komponenten wie Linsen, Prismen und Fenster verwendet.
Merkmal
Ultra-ReinSilikonwaffen: Unterstreicht den außergewöhnlich niedrigen Verunreinigungsgrad.
HochwertigSilikonwaffen: Die Qualität der Wafer wird hervorgehoben.
Prämien Silikonwaffen: Ich schlage ein erstklassiges, hochwertiges Produkt vor.
HalbleiterqualitätSilikonwaffen: Angabe der Eignung für Halbleiteranwendungen.
EinzelkristallSilikonwaffenvon hoher Reinheit: Angabe der kristallinen Struktur und des Reinheitsniveaus.
Hochreine Si-Wafer: Mit dem chemischen Symbol für Silizium.
Elektronische QualitätSilikonwaffen: Hinweis auf die Eignung für die Herstellung elektronischer Geräte.
Ultra-hohe ReinheitSilikonwaffen: Eine weitere Möglichkeit, die extrem niedrigen Verunreinigungswerte hervorzuheben.
mit einer Breite von mehr als 20 mmSilikonwaffen: Angabe der Eignung für optoelektronische Anwendungen.
ReinheitSiliziumwafers für die Mikrofabrikation: Ausrichtung auf die Eignung für Mikrofabrikationsverfahren.
| Parameter/Eigenschaft | Beschreibung/Spezifikation |
| Art des Materials | Einkristallisches Silizium |
| Reinheit | 990,9999% (6N) oder mehr |
| Durchmesser | 2 Zoll, 3 Zoll, 4 Zoll, 6 Zoll, 8 Zoll, 12 Zoll, usw. |
| Stärke | Standarddicke oder nach Kundenanforderungen angepasst |
| Kristallorientierung | Die Daten werden in der Tabelle 1 aufgeführt. |
| Orientierung | Genauigkeit ± 0,5° oder mehr |
| Ausmaß der Abweichung | mit einer Präzision von ± 5 μm oder mehr |
| Flachheit | ≤ 1 μm oder besser |
| Oberflächenrauheit | < 0,5 nm RMS oder weniger |
Unsere Vorteile
Außergewöhnliche Reinheit: Unsere Siliziumwaffen verfügen über eine beeindruckende Reinheit von 99,9999% (6N) oder mehr, was eine optimale Leistung für Ihre Anwendungen gewährleistet.
Präzisionsfertigung: Durch eine strenge Qualitätskontrolle haben unsere Wafer eine präzise Dicke, Ausrichtung und Oberflächenrauheit, die den höchsten Industriestandards entspricht.
Vielseitige Anwendungen: Ideal für eine Vielzahl von Anwendungen, von der Herstellung von Halbleitern und Optoelektronik bis hin zu Hochfrequenzgeräten und Mikro-/Nanobearbeitung.
Hohe Wärmeleitfähigkeit: Unsere Siliziumwafer weisen eine ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit auf und gewährleisten eine effiziente Wärmeableitung für Ihre Geräte.
Robuste physikalische Eigenschaften: Unsere Wafer bieten eine zuverlässige Grundlage für Ihre Bauteile.
Anpassbare Optionen: Wir bieten anpassbare Optionen für Durchmesser, Dicke und Widerstand an, um Ihren spezifischen Anforderungen gerecht zu werden.
Ultra-Clean-Oberfläche: Unsere Wafer werden sorgfältig gereinigt, was zu einer ultra-sauberen Oberfläche mit minimalen Defekten führt.
Konsistente Qualität: Wir halten uns an strenge Standards, um eine gleichbleibende Qualität unserer Produkte zu gewährleisten, sodass Sie Sicherheit haben.
Industrieübereinstimmung: Unsere hochreinen Siliziumwafer entsprechen den Industriestandards und -vorschriften und sind somit für verschiedene Anwendungen geeignet.