Markenbezeichnung: | ZMSH |
MOQ: | 11 |
Verpackungsdetails: | einzelner Oblatenbehälter |
Zahlungsbedingungen: | T/T |
SiC-Wafer 12 Zoll 300 mm Dicke 750 ± 25um Prime Dummy Reaserch-Grad für Halbleiter
12 Zoll SiC-Wafer
Ein 12 Zoll (300 mm)mit einer Breite von mehr als 10 mm,mit einer Dicke von 750 ± 25 Mikrometern ist ein kritisches Material in der Halbleiterindustrie aufgrund seiner außergewöhnlichen Wärmeleitfähigkeit, hoher Abbruchspannung und überlegenen mechanischen Eigenschaften.Diese Wafer werden mit fortschrittlichen Techniken hergestellt, um die strengen Anforderungen von Hochleistungs-Halbleiteranwendungen zu erfüllenDie inhärenten Eigenschaften von SiC machen es ideal für Kraftgeräte und Hochtemperaturelektronik, da es im Vergleich zu herkömmlichen Halbleitern auf Siliziumbasis eine höhere Effizienz und Langlebigkeit bietet.
Datenblatt für 12-Zoll-SiC-Wafer
12 Zoll Siliziumkarbid (SiC) Substrat-Spezifikation | |||||
Zulassung | ZeroMPD-Produktion Klasse ((Klasse Z) |
Standardproduktion Grade ((P-Grad) |
Schwachstelle (Grad D) |
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Durchmesser | 3 0 0 mm bis 1305 mm | ||||
Stärke | 4H-N | 750 μm±15 μm | 750 μm±25 μm | ||
4H-SI | 750 μm±15 μm | 750 μm±25 μm | |||
Waferorientierung | Außerhalb der Achse: 4,0° in Richtung < 1120 > ± 0,5° für 4H-N, auf der Achse: < 0001> ± 0,5° für 4H-SI | ||||
Mikropipendichte | 4H-N | ≤ 0,4 cm-2 | ≤ 4 cm-2 | ≤ 25 cm-2 | |
4H-SI | ≤ 5 cm-2 | ≤ 10 cm-2 | ≤ 25 cm-2 | ||
Widerstand | 4H-N | 00,015 bis 0,024 Ω·cm | 00,015 bis 0,028 Ω·cm | ||
4H-SI | ≥1E10 Ω·cm | ≥1E5 Ω·cm | |||
Primäre flache Orientierung | {10-10} ±5,0° | ||||
Primärflächige Länge | 4H-N | N/A | |||
4H-SI | Schnitzel | ||||
Grenze ausgeschlossen | 3 mm | ||||
LTV/TTV/Bow/Warp | Bei der Verwendung von Folien mit einem Durchmesser von ≤ 5 μm/≤ 15 μm/≤ 35 μm/≤ 55 μm | ≤ 5 μm/≤ 15 μm/≤ 35 □ μm/≤ 55 □ μm | |||
1 Rauheit | Polnische Ra≤1 nm | ||||
CMP Ra≤0,2 nm | Ra≤0,5 nm | ||||
Randspalten durch hochintensives Licht 1 Hex-Platten durch hochintensives Licht 1 Polytypbereiche durch hochintensives Licht Sichtbare Kohlenstoffinklusionen Silikon-Oberflächenkratzungen durch hochintensives Licht |
Keine Kumulative Fläche ≤ 0,05% Keine Kumulative Fläche ≤ 0,05% Keine |
Kumulative Länge ≤ 20 mm, Einzellänge ≤ 2 mm Kumulative Fläche ≤ 0,1% Kumulative Fläche ≤ 3% Kumulative Fläche ≤ 3% Kumulative Länge ≤ 1 × Waferdurchmesser |
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Edge-Chips durch hochintensives Licht | Keine zulässig Breite und Tiefe ≥ 0,2 mm | 7 zulässig, jeweils ≤ 1 mm | |||
Schraubschraubentwicklung | ≤ 500 cm2 | N/A | |||
Verlagerung der Basisebene | ≤ 1000 cm2 | N/A | |||
Kontamination der Siliziumoberfläche durch hochintensives Licht |
Keine | ||||
Verpackung | Multifaktor-Kassette oder Einfachwaferbehälter |
12 Zoll SiC Wafer Foto
Eigenschaften von 12-Zoll-SiC-Wafern
Fragen und Antworten
F: Was sind die Vorteile der Verwendung von 12-Zoll-SiC-Wafern in der Halbleiterherstellung?
A: Zu den Hauptvorteilen der Verwendung von 12-Zoll-SiC-Wafern gehören:
F: Was sind die wichtigsten Anwendungen für 12-Zoll-SiC-Wafer in Hochleistungssystemen?
A:12-Zoll-SiC-Wafer eignen sich besonders für Hochleistungsanwendungen wie:
Tag: 12-Zoll SiC Wafer SiC Wafer 300mm SiC Wafer