Detailinformationen |
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Durchmesser: | 500,8 mm±0,2 mm | Wachstums-Methode: | Czochralski (CZ) |
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Verbeugen: | ≤ 30 μm | Warpgeschwindigkeit: | ≤ 30 μm |
Gesamtdickenvariation (TTV): | ≤ 5 μm | Partikel: | ≤ 10 @ ≥ 0,3 μm |
Sauerstoff-Konzentration: | ≤ 18 ppm | Kohlenstoffkonzentration: | ≤ 1 ppm |
Hervorheben: | CZ Wachstumsmethode Siliziumwafer,Silikonwafer für LED-Beleuchtung,2 Zentimeter große Silikon-Wafer |
Produkt-Beschreibung
2 Zoll große Siliziumwafer P-Typ n-Typ CZ Wachstumsmethode BOW ≤30 für LED-Beleuchtung
Zusammenfassung von Siliziumwafern
Siliziumwafer sind das Grundmaterial, das in der Halbleiterindustrie für die Herstellung von integrierten Schaltungen und verschiedenen Mikroapparaten verwendet wird.Diese Wafer dienen als Substrat, auf dem mit Hilfe von hochentwickelten photolithographischen Techniken Schaltkreise gedruckt werden.
Eigenschaften von Siliziumwafern
Siliziumwafer besitzen mehrere wesentliche Eigenschaften, die sie in der Halbleiterindustrie unverzichtbar machen.Diese Eigenschaften sind entscheidend für die Leistung und Funktionalität der auf ihnen hergestellten Geräte.Hier sind einige der wichtigsten Eigenschaften von Siliziumwafern:
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Elektrische Eigenschaften:
- Verhalten der HalbleiterSilicon ist ein Halbleiter, was bedeutet, dass es unter bestimmten Bedingungen Elektrizität leiten kann, aber nicht unter anderen, was für die Erstellung elektronischer Schalter entscheidend ist.
- Bandgap: Silizium weist bei Raumtemperatur eine Bandlücke von etwa 1,12 eV auf und bietet ein optimales Gleichgewicht zwischen elektrischer Leitfähigkeit und Isolierungseigenschaften, geeignet für verschiedene elektronische Anwendungen.
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Mechanische Eigenschaften:
- Härte und Stärke: Silizium ist ein relativ hartes und starkes Material, das es während des Herstellungsprozesses langlebig macht.
- Bruchbarkeit: Trotz seiner Festigkeit ist Silizium spröde, was eine sorgfältige Handhabung erfordert, um beim Waferverarbeiten zu verhindern, dass es bricht oder zersplittert.
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Thermische Eigenschaften:
- Wärmeleitfähigkeit: Silizium weist eine gute Wärmeleitfähigkeit auf (rund 150 W/mK bei Raumtemperatur), die für die Ableitung der von elektronischen Geräten erzeugten Wärme unerlässlich ist.
- Koeffizient der thermischen Ausdehnung: Silizium weist einen relativ niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten auf, der die Strukturintegrität bei unterschiedlichen Temperaturen während des Betriebs und der Verarbeitung des Geräts aufrechterhält.
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Chemische Eigenschaften:
- Oxidation: Silizium bildet leicht eine Siliziumdioxid-Schicht (SiO2), wenn es besonders bei hohen Temperaturen Sauerstoff ausgesetzt ist.Wie die Schaffung von Isolationsschichten und Tor-Oxiden in MOSFETs.
- Chemische Stabilität: Silizium ist unter den meisten Bedingungen chemisch stabil, was für die Aufrechterhaltung der Reinheit und Leistungsfähigkeit der elektronischen Geräte entscheidend ist.
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Optische Eigenschaften:
- Transparenz gegenüber Infrarotlicht: Silizium ist für Infrarotlicht durchsichtig und wird in Infrarotdetektoren und anderen photonischen Anwendungen eingesetzt.
- Ich weiß.
1 in | 2 in | 3 in | 4 in | 6 in | |
Material: | Silizium | Silizium | Silizium | Silizium | Silizium |
Durchmesser: | 25 mm | 50 mm | 76 mm | 100 mm | 150 mm |
Orientierung: | < 100> | < 100> | < 111> | < 100> | < 100> |
Widerstand: | 1 bis 30 Ohm | 1 bis 30 Ohm | 1 bis 30 Ohm | 1 bis 30 Ohm | 1 bis 30 Ohm |
Typ P: | Bor - 1 Primärplatte | Bor - 1 Primärplatte | Bor - 1 Primärplatte | Bor - 1 Primärplatte | Bor - 1 Primärplatte |
SiO2Oberbeschichtung: | Keine | Keine | Keine | Keine | Keine |
Waferdicke: | 10 bis 12 Mill (254 bis 304 μm) |
9-13 Mühle (230 bis 330 μm) |
130,6 bis 18,5 Mill (345 bis 470 μm) |
180,7-22,6 mL (475-575 μm) |
230,6-25,2 mL (600 bis 690 μm) |
Grobheit: | 2 nm | 2 nm | 2 nm | 2 nm | 2 nm |
TTV: | < 20 μm | ||||
Polster: | auf einer Seite | auf einer Seite | auf einer Seite | auf einer Seite | auf einer Seite |
Diese Eigenschaften werden während des Fertigungsprozesses von Halbleitergeräten genutzt, wo eine präzise Kontrolle über die elektrischen, mechanischen,und chemischen Eigenschaften der Siliziumwafer erforderlich ist, um zuverlässige und leistungsstarke elektronische Komponenten zu produzierenDie Anpassungsfähigkeit von Silizium an Doping (das Hinzufügen von Verunreinigungen zur Änderung seiner elektrischen Eigenschaften) erhöht seinen Nutzen bei der Herstellung verschiedener elektronischer und photonischer Geräte.
Anwendungen von Siliziumwafern
Siliziumwafer sind für zahlreiche Anwendungen in verschiedenen Bereichen von grundlegender Bedeutung, hauptsächlich aufgrund ihrer vielseitigen Eigenschaften als Halbleitermaterial.
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Integrierte Schaltungen (IC): Siliziumwafer sind das Hauptsubstrat für die Herstellung von integrierten Schaltungen, einschließlich Mikroprozessoren, Speicherchips (wie DRAM und Flash),und eine Reihe von digitalen und analogen Schaltungen, die das Rückgrat aller modernen Elektronik bilden.
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Solarzellen: Silizium ist ein wichtiger Bestandteil der Photovoltaikindustrie für die Herstellung von Solarzellen.die dann zur Umwandlung von Sonnenenergie in elektrische Energie verwendet werden.
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Mikroelektromechanische Systeme (MEMS): MEMS-Geräte integrieren mechanische und elektrische Komponenten in mikroskopischem Maßstab auf Siliziumwafern.und Mikrostrukturen in Automobilsystemen, Smartphones, medizinische Geräte und verschiedene Unterhaltungselektronik.
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Optoelektronik: Siliziumwafer werden bei der Herstellung optoelektronischer Geräte wie Leuchtdioden (LED) und optischen Sensoren verwendet.Es ist entscheidend in der Struktur von Geräten, die Licht manipulieren oder erkennen.
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Elektroelektronik: Siliziumwafer werden in der Herstellung von Leistungselektronikgeräten eingesetzt, die in Elektrofahrzeugen, erneuerbaren Energiesystemen und Stromnetzen elektrische Energie effizient steuern und umwandeln.Zu diesen Geräten gehören Leistungsdioden, Transistoren und Thyristoren.
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Halbleiterlaser: Obwohl Silizium bei der Herstellung von Teilen von Halbleiterlasern weniger verbreitet ist als andere Materialien für die aktiven Schichten, wird Silizium bei der Herstellung von Teilen von Halbleiterlasern verwendet.besonders in integrierten photonischen Geräten, bei denen Licht auf einem Siliziumchip manipuliert wird.
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Quantenrechner: Aufstrebende Anwendungen im Quantencomputing verwenden Siliziumwafer, um Quantenpunkte oder andere Strukturen zu erstellen, die Qubits, die grundlegenden Einheiten der Quanteninformation, beherbergen können.
Die weit verbreitete Verwendung von Siliziumwafern in diesen unterschiedlichen Anwendungen beruht auf ihrer elektrischen Vielseitigkeit, mechanischen Stabilität, Wärmeleitfähigkeit,und Kompatibilität mit bestehenden FertigungstechnologienDa sich die Halbleiterindustrie weiterentwickelt, bleibt die Rolle der Siliziumwafer zentral und sie passt sich ständig neuen Technologien und Anwendungen an.
Schaufenster für Silikonwafer
Fragen und Antworten
Wofür wird Siliziumwafer verwendet?
Ein Siliziumwafer wird hauptsächlich als Substrat für die Herstellung von integrierten Schaltungen (ICs) und mikroelektronischen Geräten verwendet.
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Integrierte Schaltungen: Siliziumwafer sind das Grundmaterial, auf dem die meisten Halbleitergeräte oder Chips gebaut werden.und eine Vielzahl anderer digitaler und analoger Schaltungen, die zu Computern gehören, Mobiltelefone und viele andere Arten von elektronischen Geräten.
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Solarzellen: Sie werden im Bereich der Solarenergie häufig zur Herstellung von Photovoltaikzellen eingesetzt, die Sonnenlicht in Strom umwandeln.Die Fähigkeit des Siliziums, Sonnenenergie zu absorbieren, macht es ideal für diese Anwendung.
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Mikroelektromechanische Systeme (MEMS): Siliziumwafer werden zur Herstellung von MEMS-Geräten verwendet, die winzige mechanische und elektronische Komponenten integrieren.
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Optoelektronik: Im Bereich der Optoelektronik werden Siliziumwafer zur Herstellung von Komponenten verwendet, die mit Licht interagieren, wie z. B. Photodetektoren, LEDs und Elemente optischer Kommunikationssysteme.
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Leistungsgeräte: Silizium wird in Leistungselektronikgeräten verwendet, die in Systemen von Elektrofahrzeugen bis hin zu Solarstromumrichtern elektrische Energie effizient verwalten und umwandeln.
Die Vielseitigkeit, elektrische Eigenschaften und mechanische Stabilität von Siliziumwafern machen sie in den Bereichen Computer, Telekommunikation, Energie und vielen Bereichen der Unterhaltungselektronik unerlässlich.